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一种高光谱隐身涂料及其制备方法和高光谱隐身涂层

摘要

本发明涉及一种高光谱隐身涂料,包括如下质量百分比的组分:粘合剂40%~50%、颜填料14%~17.5%、功能性填料0~20%、助剂0.5%~1%和有机溶剂14%~18%。本发明制得的高光谱隐身涂料及涂层具有优异的防高光谱侦察性能,在0.4~2.5μm,高光谱隐身涂层近红外(710nm‑880nm)反射率平均值与红光区(620nm‑660nm)反射率平均值之比>5,光谱反射率在1200nm处反射率范围为40%~60%,在1400nm处反射率范围为30%~50%,在1800nm处反射率范围为20%~40%,在2500nm处反射率范围为0~20%,高光谱隐身涂层60度光泽小于5个光泽单位,满足国家军用标准要求,并具有传统隐身材料不具有的抗高光谱侦察伪装性能,将对抗波段扩展到0.4‑2.5微米范围。此外,本发明还涉及一种高光谱隐身涂料的制备方法及一种高光谱隐身涂层。

著录项

  • 公开/公告号CN111218197B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 四川智溢实业有限公司;

    申请/专利号CN202010145573.9

  • 申请日2020-03-05

  • 分类号C09D167/06(20060101);C09D7/61(20180101);C09D7/63(20180101);C09D5/33(20060101);

  • 代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人霍淑利

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)天勤路789号

  • 入库时间 2022-08-23 13:02:58

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