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提高真空灭弧室击穿电压的试验装置及方法

摘要

一种提高真空灭弧室击穿电压的试验装置及方法,包括直流电源,直流电源用于给真空灭弧室提供直流电,所述的真空灭弧室外部设置纵向磁场提供装置。所述的直流电源的正极输出端设有接触器,所述的接触器用于控制直流回路的通断。本发明采用纵向磁场控制直流电弧燃弧在阳极表面形成熔化层,有助于增加真空灭弧室的击穿电压;同时控制电弧时间和纵向磁场大小,实现熔化层厚度和均匀度的控制。

著录项

  • 公开/公告号CN111999611B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京航空航天大学;

    申请/专利号CN202010803271.6

  • 发明设计人 李世民;孔凡珺;张潮海;

    申请日2020-08-11

  • 分类号G01R31/12(20060101);G01R31/327(20060101);

  • 代理机构42244 武汉维盾知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人彭永念

  • 地址 210001 江苏省南京市秦淮区御道街29号

  • 入库时间 2022-08-23 12:36:53

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