光学元件制造方法、光学元件、尼普科夫盘、共焦光学系统以及三维测量装置

摘要

一种光学元件制造方法包括：设置遮光层(14)，该遮光层包括在用作基底件的基质上的作为最上层的至少Si层；在遮光层(14)上形成光学孔径(14a)；以及通过干法蚀刻在最上层的表面上形成微小的凹进/凸起结构。