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硬盘基片以及使用该硬盘基片的硬盘装置

摘要

本发明解决的问题是提供一种能够减少盘片表面伤痕并抑制旋转过程中的盘面晃动的薄形硬盘基片以及使用该硬盘基片的硬盘装置。本发明的硬盘基片(1)的特征是在铝合金基片(2)的表面形成有NiP镀膜(3),所述铝合金基片(2)的维氏硬度为60Hv或以上,所述NiP镀膜(3)的厚度与所述铝合金基片(2)的厚度之比为3.8%或以上,所述硬盘基片(1)的杨氏模量为74.6GPa或以上,所述硬盘基片(1)的维氏硬度为293Hv或以上。

著录项

  • 公开/公告号CN110121745B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东洋钢钣株式会社;

    申请/专利号CN201780081695.2

  • 发明设计人 泷本彩香;迎展彰;

    申请日2017-12-28

  • 分类号G11B5/73(20060101);G11B5/738(20060101);

  • 代理机构31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人曹廷廷

  • 地址 日本国东京都品川区东五反田二丁目18番1号

  • 入库时间 2022-08-23 11:29:03

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