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用于场相关畸变模型的标定场设计及标定方法

摘要

本发明提供了一种用于场相关畸变模型的标定场设计及标定方法,包括步骤:a)展开框架,并用连接杆支撑所述框架的活动关节,保持所述框架稳定;b)将直线材料竖直平行固定于所述框架上下两端,并拉伸所述直线材料,保持所述直线材料的直线度;c)在所述连接杆上布置所述编码点,用普通相机对标定场中的编码点进行拍摄;d)获取所述编码点的空间坐标,将所述编码点的空间坐标进行平面拟合,并将坐标原点移动至拟合平面上;e)将待标定相机固定于微调平台;f)用所述待标定相机对所述标定场进行拍照,计算所述待标定相机的位置及光轴指向;g)通过调节所述微调平台,使光轴垂直于所述拟合平面;h)重复步骤f)和步骤g),调节所述待标定相机的位置误差小于0.005mm,角度误差小于0.005°。

著录项

  • 公开/公告号CN106127724B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-09-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京信息科技大学;

    申请/专利号CN201610297148.5

  • 申请日2016-05-06

  • 分类号

  • 代理机构北京律恒立业知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人顾珊

  • 地址 100085 北京市海淀区清河小营东路12号北京信息科技大学光电学院

  • 入库时间 2022-08-23 10:17:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-21

    授权

    授权

  • 2016-12-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06T7/00 申请日:20160506

    实质审查的生效

  • 2016-12-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06T 7/00 申请日:20160506

    实质审查的生效

  • 2016-11-16

    公开

    公开

  • 2016-11-16

    公开

    公开

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