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液相源雾化微波等离子体化学气相沉积制备薄膜的方法

摘要

本发明涉及一种液相源雾化微波等离子体化学气相沉积制备薄膜的方法。本发明是经过1.液相雾化源的制备;2.等离子体激发化学反应过程;3.薄膜的形成过程完成。将混合液相雾化作为反应源,扩大了传统气相法制膜的选材范围,尤其是采用可溶性无机盐为原料,符合我国资源优势;二是通过微波能激发等离子体发生化学反应,而非用通常的高压、高频产生等离子体,使化学反应在能态高、密度大、无污染的高真空环境中进行,适合多种化学反应类型;三是通过工艺控制,如真空度、沉积速率、衬底温度等参数调节,可实现薄膜结构控制,如形成多孔膜或致密膜,满足各类性能要求。

著录项

  • 公开/公告号CN1242094C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-02-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN03121933.0

  • 发明设计人 徐廷献;季惠明;徐明霞;

    申请日2003-04-18

  • 分类号C23C16/511(20060101);

  • 代理机构12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所;

  • 代理人王丽

  • 地址 300072 天津市南开区卫津路92号天津大学

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-06-18

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2006-02-15

    授权

    授权

  • 2004-02-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-11-26

    公开

    公开

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