法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-07-28
授权
授权
2015-12-02
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/896 申请日:20150619
实质审查的生效
2015-12-02
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/896 申请日:20150619
实质审查的生效
2015-11-04
公开
公开
2015-11-04
公开
公开
机译: 具有能够获得电光响应的均匀性的大孔径区域的透射型光学图像调制器,一种制造该光学图像调制器的方法和一种包括透射型光学图像调制器的光学设备
机译: 结构性缺陷存在的判定方式,偏折边际评价方式以及结构性缺陷部位的推定为零阶段
机译: 掩膜基板,多层反射膜基板,透射型掩膜基板,反射型掩膜基板,透射型掩膜基板,反射型掩膜基板以及半导体装置的制造方法