公开/公告号CN1239969C
专利类型发明授权
公开/公告日2006-02-01
原文格式PDF
申请/专利权人 布鲁克斯自动化公司;
申请/专利号CN00811941.4
申请日2000-06-20
分类号
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人吴立明
地址 美国马萨诸塞州
入库时间 2022-08-23 08:58:20
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-08-22
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G05B 19/418 授权公告日:20060201 终止日期:20110620 申请日:20000620
专利权的终止
2006-02-01
授权
授权
2002-12-04
实质审查的生效
实质审查的生效
2002-09-25
公开
公开
2002-09-04
实质审查的生效
实质审查的生效
机译: 用于微电子学的半导体器件生产中使用的硅片在上表面和基底之间具有氧沉淀浓度分布
机译: 用于微电子学中的半导体器件的隔离方法包括第一开关,第二开关和由金属屏蔽元件组成的屏蔽,用于屏蔽两个开关之间的杂质信号
机译: 几乎实时的系统,用于监视工厂中用于工业生产的在线连续运行状态以及用于监视生产安装的连续生产线中的系统用于工业连续运行和预测过程中即将发生的异常情况,以及用于近实时监视的方法分批或连续运行的工业生产设施的运行情况