具有广谱终点检测窗口的化学机械抛光垫以及使用该抛光垫进行抛光的方法

摘要

本发明提供了一种化学机械抛光垫，其包括：具有抛光表面的抛光层；以及广谱终点检测窗口块体，其具有沿着垂直于所述抛光表面的平面的轴方向上的厚度；其中所述广谱终点检测窗口块体包含环状烯烃加成聚合物；其中所述广谱终点检测窗口块体在其厚度上具有均匀的化学组成；其中所述广谱终点检测窗口块体的光谱损失<40%；以及，其中所述抛光表面适合用于对选自磁性基材、光学基材和半导体基材的基材进行抛光。