首页> 中国专利> 一种应用于MOSFET电学仿真的PSP应力的建模方法

一种应用于MOSFET电学仿真的PSP应力的建模方法

摘要

本发明公开了一种应用于MOSFET电学仿真的PSP应力模型,在标准的PSP模型基础上,引入了产生应力的版图参量作为实体参数,增加了版图参数和影响系数,版图参数为表示各版图参量有效值的拟合参数,影响系数为表示各版图参量对PSP模型基本参数中与尺寸无关的平带电压Vfb0和零电场下迁移率μ0影响程度的拟合参数;以及提供了根据版图参量确定晶体管饱和阈值电压Vtsat和饱和漏极电流Idsat的变化特性的方法。本发明在标准的PSP模型基础上考虑了版图参量对与尺寸无关的平带电压Vfb0和零电场下迁移率μ0的影响;并重新定义与尺寸无关的平带电压Vfb0和零电场下迁移率μ0。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-09

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G06F 17/50 授权公告日:20150408 终止日期:20171018 申请日:20121018

    专利权的终止

  • 2015-04-08

    授权

    授权

  • 2015-04-08

    授权

    授权

  • 2013-03-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20121018

    实质审查的生效

  • 2013-03-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20121018

    实质审查的生效

  • 2013-02-06

    公开

    公开

  • 2013-02-06

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号