法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-12-18
授权
授权
2012-07-18
实质审查的生效 IPC(主分类):H04R 3/00 申请日:20111018
实质审查的生效
2012-06-20
公开
公开
机译: 清洁半导体晶片的方法,涉及在包含用于接收半导体晶片的晶片保持器的清洗盆中引入兆声波能量,其中确定晶片保持器上的最大兆声波压力
机译: 基于模型的内燃机控制方法,其中在能量平衡模型中,将对应于燃料空气混合物的总能量输入与热量输出和转换后的热能匹配
机译: 发光方法涉及在高能带内条件下在半导体层结构中激发声波的电荷载流子,并在能量声条件下再次放宽载流子以发射电磁辐射