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一种防磁盘润滑剂分解的磁头薄膜的制备方法

摘要

本发明属于计算机硬盘磁头制造领域。其制备方法为将X-1P配制成浓度为100-300ppm的溶液,将磁头浸入制膜溶液,在制膜溶液中浸泡5-10分钟后,然后将磁头取出放入100-120℃恒温装置,保持30-60分钟,使磁头表面的溶剂挥发而X-1P吸附在磁头表面,从而在磁头上得到X-1P薄膜。该薄膜能够大大减轻磁头材料对磁盘润滑剂的催化分解,且X-1P分子能增强润滑分子在磁盘表面的迁移流动能力,从而使磨损的磁盘润滑膜得到自动修复。本发明提高了磁盘润滑膜的化学稳定性,增强了磁头/磁盘之间的润滑稳定,使磁头读写元件和磁盘磁介质的磨损减少,将大大提高硬盘的存储稳定性和使用寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN1133977C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2004-01-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 清华大学;

    申请/专利号CN01130664.5

  • 发明设计人 杨明楚;雒建斌;王巍;

    申请日2001-08-17

  • 分类号G11B5/255;

  • 代理机构北京清亦华专利事务所;

  • 代理人廖元秋

  • 地址 100084 北京市海淀区清华园

  • 入库时间 2022-08-23 08:56:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-10-16

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 5/255 授权公告日:20040107 终止日期:20120817 申请日:20010817

    专利权的终止

  • 2004-01-07

    授权

    授权

  • 2002-04-03

    公开

    公开

  • 2002-02-06

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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