膜厚推算方法、存储介质和膜厚推算装置

摘要

本发明提供能够基于来自基片的反射光高精度地推算膜厚的膜厚推算方法、存储介质和膜厚推算装置。本发明的一个方面的膜厚推算方法包括：在使基片旋转以使得在正面上形成处理液的膜的旋转期间，向与基片的正面重叠的部位照射光的步骤；通过接收反射光来获取表示在旋转期间中反射光的强度随时间的变化的信号波形的步骤，其中，该反射光是由在基片的正面反射后经由处理液的膜出射的光和在处理液的膜的外表面反射的光合成的；根据信号波形中的、旋转期间内的规定的测量时间点与在测量时间点以前信号波形满足规定条件的时间点之间的波形，获取特征量的步骤；以及基于获取到的特征量，计算测量时间点处的处理液的膜的厚度的步骤。