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一种增强大型效应物内场强的基于介质基底结构的辐照腔

摘要

本发明涉及一种辐照腔,具体涉及一种增强大型效应物内场强的基于介质基底结构的辐照腔。克服采用现有辐照腔改进手段可行性较低的问题。本发明在辐照腔中放置了具有特定相对介电常数的绝缘介质基底,并在绝缘介质基底上刻上特定形状和尺寸的凹槽、然后再填上特定形状及尺寸的金属材质,实现了大型非金属效应物内部的场强增强,从而完成了辐照腔结构的改进。

著录项

  • 公开/公告号CN113181556A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西北核技术研究所;

    申请/专利号CN202110482220.2

  • 申请日2021-04-30

  • 分类号A61N5/00(20060101);A61N1/40(20060101);

  • 代理机构61211 西安智邦专利商标代理有限公司;

  • 代理人汪海艳

  • 地址 710024 陕西省西安市灞桥区平峪路28号

  • 入库时间 2023-06-19 12:04:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-23

    授权

    发明专利权授予

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