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平面晶体管的设计准则及平面电晶体

摘要

本发明涉及一种平面晶体管的设计准则及平面晶体管,包括:使用优先方法将关键的设计准则进行评估并划分成4个级别;对所述设计准则优先级排序的第一级别为:新规则;对所述设计准则优先级排序的第二级别为:区域关键规则;对所述设计准则优先级排序的第三级别为:设计关键规则;对所述设计准则优先级排序的第四级别为:产量关键规则;所述第一级别的优先级最高,所述第四级别的优先级最低;使用优先方法评估所述设计准则以及所述设计准则设计的创新的设计布局,将所述平面晶体管的设计准则和设计架构达到最佳化。

著录项

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  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-27

    专利申请权的转移 IPC(主分类):G06F30/398 专利申请号:2020116364130 登记生效日:20220915 变更事项:申请人 变更前权利人:广东省大湾区集成电路与系统应用研究院 变更后权利人:广东省大湾区集成电路与系统应用研究院 变更事项:地址 变更前权利人:510000 广东省广州市广州开发区开源大道136号A栋 变更后权利人:510000 广东省广州市广州开发区开源大道136号A栋 变更事项:申请人 变更前权利人:澳芯集成电路技术(广东)有限公司 变更后权利人:锐立平芯微电子(广州)有限责任公司

    专利申请权、专利权的转移

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