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电子束扫描电子显微镜用于表征从电子束的视线看被遮挡的侧壁的用途

摘要

由扫描电子显微镜(SEM)的电子束扫描半导体装置。区域包括具有顶部开口和侧壁的三维(3D)特征。在改变所述电子束的能量值时,对所述3D特征进行成像。所述电子束撞击在所述半导体装置的所选择的区域内的第一点处并与所述侧壁进行相互作用,其中所述第一点在远离所述顶部开口的边缘的某一距离处。基于表示在所述边缘处的二次电子产率的信号随着所述电子束的所述能量值在SEM成像期间变化而发生的变化,确定所述侧壁是否从所述电子束的视线看被遮挡。可通过将所测量的信号与同各种斜率相对应的模拟波形进行比较来确定所述侧壁的斜率。

著录项

  • 公开/公告号CN112635342A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN202011019472.3

  • 发明设计人 奥弗·尤利;萨姆尔·班纳;

    申请日2020-09-24

  • 分类号H01L21/66(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国;赵静

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 10:32:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 专利申请号:2020110194723 申请日:20200924

    实质审查的生效

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