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用于表征PN结耗尽区特征的WAT测试结构和方法

摘要

本发明公开了一种用于表征PN结耗尽区特征的WAT测试结构及方法,所述测试结构的有源区中形成有N阱,所述N阱的周围形成有浅槽隔离结构,在所述N阱的上方形成有多个不同宽度的栅极结构,所述栅极结构均由栅氧化层、栅极导电材料层和侧墙组成,所述有源区内还形成有位于各栅极结构一侧的PLDD区域,所述PLDD区域和所述N阱形成PN结,所述PN结的交界面呈台阶状并在所述栅极结构下方形成耗尽区;所述N阱的一端引出为量测端,另一端引出为接地端,所述PLDD区域引出为偏压端。本发明通过上述新型的WAT测试结构及测试方法可以计算出PN结的耗尽区宽度、不同宽度的夹断电压以及评估不同IMP注入方向和角度下的掺杂情况。

著录项

  • 公开/公告号CN112490216A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN202011355641.0

  • 发明设计人 盖如坤;王骞;谢亚锋;

    申请日2020-11-27

  • 分类号H01L23/544(20060101);H01L21/66(20060101);G01R31/26(20140101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人栾美洁

  • 地址 201203 上海市浦东新区自由贸易试验区高斯路568号

  • 入库时间 2023-06-19 10:11:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-09-19

    授权

    发明专利权授予

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