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公开/公告号CN112327495A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-02-05
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社理光;
申请/专利号CN202011203281.2
发明设计人 大杉史织;洼田高士;逢坂敬信;中村直树;
申请日2016-09-27
分类号G02B27/01(20060101);
代理机构31300 上海华诚知识产权代理有限公司;
代理人肖华
地址 日本东京都大田区中马込一丁目3番6号
入库时间 2023-06-19 09:47:53
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-07-28
授权
发明专利权授予
机译: 导光构件,导光体及虚像显示装置
机译: 导光板,虚像光学系统以及虚像显示装置
机译:多重曝光HDR图像反虚像方法的评估
机译:不完整的Reficere:蒙达蒂诺夫的圣洛伦索教堂的不完整外观及其虚像
机译:基于非高斯性的自适应f-k反虚像方法
机译:使用后向透射光学系统的头戴式显示器的虚像投影仪
机译:用基于虚像的相控阵脉冲整形器演示光学可调色散补偿。
机译:基于真实和虚像的电阻抗层析成像异常检测
机译:纽扣和Sp1在果蝇腹侧虚像盘发育中的作用
机译:用于可见光和近红外天文成像的钠导星自适应光学系统。修订版1