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一种气体团簇离子束流在真空中形成薄膜的方法

摘要

气体团簇离子束流在真空中形成薄膜的方法,在减压环境中提供所述衬底;由加压气体混合物产生所述至少一个气体团簇离子束GCIB;选择离子团簇加速电位和剂量以达到所述小于5nm的厚度;根据所述离子团簇剂量,将所述加速的至少一个GCIB照射到所述衬底的所述至少一部分上;在所述衬底的所述至少一部分上形成所述超薄薄膜以达到所述厚度;所述超薄薄膜的厚度小于5nm;(a)通过将所述衬底中的至少一种原子成分与所述至少一种GCIB中的至少一种成膜原子成分混合,任选地在所述衬底的表面部分中生长混合子层,(b)沉积一种或多种成膜原子在所述基底的所述表面部分上来自所述至少一个GCIB的组分形成沉积层。

著录项

  • 公开/公告号CN112176305A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010998454.8

  • 发明设计人 曹路;刘翊;张同庆;

    申请日2020-09-21

  • 分类号C23C14/46(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/02(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/54(20060101);H01L21/768(20060101);

  • 代理机构32249 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人陈建和

  • 地址 210000 江苏省南京市浦口区桥林街道步月路29号12幢-500

  • 入库时间 2023-06-19 09:26:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-15

    发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):C23C14/46 专利申请号:2020109984548 申请公布日:20210105

    发明专利申请公布后的撤回

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