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磁阻随机存取存储装置及其制造方法

摘要

提供一种磁阻随机存取存储(MRAM)装置及其制造方法,所述装置包括:衬底;存储单元,所述存储单元包括顺序堆叠在所述衬底上的下电极、磁隧道结(MTJ)结构和上电极;钝化图案,所述钝化图案位于所述存储单元的侧壁上;通路,所述通路位于所述存储单元上并与所述上电极接触;和布线,所述布线位于所述通路上并与所述通路接触,其中,所述上电极的中央部分在基本垂直于所述衬底的上表面的垂直方向上从所述上电极的其余部分突出。

著录项

  • 公开/公告号CN112186100A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN202010344734.7

  • 发明设计人 权倍成;

    申请日2020-04-27

  • 分类号H01L43/08(20060101);H01L43/12(20060101);G11C11/16(20060101);

  • 代理机构11330 北京市立方律师事务所;

  • 代理人李娜;王占杰

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-06-19 09:26:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L43/08 专利申请号:2020103447347 申请日:20200427

    实质审查的生效

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