公开/公告号CN111699547A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-09-22
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申请/专利权人 三菱瓦斯化学株式会社;
申请/专利号CN201980012078.6
发明设计人 尾家俊行;普林安加·柏达那·普特拉;堀田明伸;
申请日2019-02-27
分类号H01L21/316(20060101);
代理机构11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘新宇;李茂家
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 08:20:46
机译: 氧化铝保护液,保护方法和制造具有氧化铝层的半导体衬底的方法。
机译: 具有相同层的氧化铝层的氧化铝保护液,保护方法和生产方法
机译: 使用该记录介质的图像形成方法,该记录介质,该记录介质的制造方法,氧化铝分散液以及氧化铝分散液的制造方法