首页> 中国专利> 一种基于短平面反射器实现减少后向辐射的薄层缝隙天线

一种基于短平面反射器实现减少后向辐射的薄层缝隙天线

摘要

本发明公开了一种基于短平面反射器实现减少后向辐射的薄层缝隙天线,包括介质基板、缝隙天线、平面发射器和微带线,所述缝隙天线位于所述介质基板的一侧,所述平面发射器的数量为两个,所述微带线和两个所述平面发射器均位于所述介质基板远离所述缝隙天线的一侧,且均与所述缝隙天线垂直,两个所述平面发射器对称设置于所述微带线的两侧,且一端沿所述微带线方向平行延伸跨越所述缝隙天线。相对于现有技术,该天线在不额外增加缝隙天线尺寸的前提下,在介质厚度仅为0.015(自由空间波长)实现减少天线朝向馈电微带线端的辐射,提高了缝隙天线的增益。

著录项

  • 公开/公告号CN111682313A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 桂林电子科技大学;

    申请/专利号CN202010637237.6

  • 申请日2020-07-04

  • 分类号H01Q1/38(20060101);H01Q19/10(20060101);H01Q1/50(20060101);

  • 代理机构45134 桂林文必达专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人张学平

  • 地址 541004 广西壮族自治区桂林市七星区金鸡路1号

  • 入库时间 2023-06-19 08:19:12

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号