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等离子体处理装置、等离子体处理方法、等离子体处理装置的清洁方法和等离子体处理装置用压力调整阀

摘要

等离子体处理装置(11)具有:从排气孔(13)向下方侧延伸的第一排气路(15);与第一排气路(15)的排气方向的下游侧端部连接,在与第一排气路(15)垂直的方向上延伸,在相对于排气方向正交的断面上是宽度方向比上下方向长的横长断面形状的第二排气路(16);与第二排气路(16)的排气方向的下游侧端部连接,在与第二排气路(16)垂直的方向上延伸的第三排气路(17);与第三排气路(17)的排气方向的下游侧端部连接,对处理容器(12)内减压的泵(18);设置在第二排气路(16)内,具有能够封闭第二排气路(16),且对排气方向的上游侧与下游侧之间的压力进行调整的压力调整用阀板(20)的压力调整阀(21);设置在第三排气路(17)内,具有进行第三排气路(17)的开闭的关闭阀板(22)的关闭阀(23)。

著录项

  • 公开/公告号CN102132387A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-07-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN200980132951.1

  • 发明设计人 野沢俊久;河本慎二;岩崎征英;

    申请日2009-08-27

  • 分类号H01L21/3065;C23C16/44;H01L21/205;H01L21/304;

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人李伟

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-18 03:04:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-02-12

    专利权的视为放弃 IPC(主分类):H01L21/3065 放弃生效日:20110720 申请日:20090827

    专利权的视为放弃

  • 2011-08-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/3065 申请日:20090827

    实质审查的生效

  • 2011-07-20

    公开

    公开

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