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确定最佳工艺窗口的最佳工艺设定的方法,该最佳工艺窗口优化了确定光刻工艺最佳工艺窗口的工艺性能

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印刷具有临界尺寸(CD)的特征的光刻工艺中，使用整体性能表征参数(Cpk)和分析模型确定提供最佳工艺窗口的最佳工艺变量(E、F、W)设定，该模型以例如曝光剂量(E)和聚焦(F)的工艺参数的函数描述CD数据。这允许计算CD统计分布(CDd)的平均值(μCD)和方差(σCD)，并可确定最大Cpk值以及相关工艺参数的值，这些值提供优化的工艺窗口。

著录项

公开/公告号CN1732412A

专利类型发明专利
公开/公告日2006-02-08

原文格式PDF
申请/专利权人皇家飞利浦电子股份有限公司;
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申请/专利号CN200380107934.5
发明设计人 J·范温格登;C·A·H·朱弗曼斯;P·迪克森;
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申请日2003-12-18
分类号G03F7/20(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人刘红;梁永
地址荷兰艾恩德霍芬
入库时间 2023-12-17 16:55:11

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2009-08-12

发明专利申请公布后的视为撤回

发明专利申请公布后的视为撤回
2006-04-05

实质审查的生效

实质审查的生效
2006-02-08

公开

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