具有带有实质上阻挡固化处理期间紫外线辐射的光学带隙的材料的电介质盖帽以及相关的方法

摘要

本发明公开了一种电介质盖帽(100)以及相关的方法。在一个实施例中，电介质盖帽(100)包括电介质材料(108)，该电介质材料具有实质上阻挡固化处理期间紫外线辐射的光学带隙(例如，大于约3.0电子伏特)，并且包括具有电子施主、双键电子的氮。电介质盖帽(100)表现出高的模数并且在用于例如铜低k后段工艺(BEOL)纳电子器件的后ULK UV固化处理下是稳定的，这引起较少的膜和器件开裂以及改进的可靠性。