首页> 中国专利> 用于将沉积材料沉积在受体基板上的供体基板、用于沉积沉积材料的方法、以及制造供体基板的方法

用于将沉积材料沉积在受体基板上的供体基板、用于沉积沉积材料的方法、以及制造供体基板的方法

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本申请公开了一种用于将沉积材料(40)沉积在受体基板(3)上的供体基板(1)。供体基板(1)包括；基底基板(10)；位于基底基板(10)上的图案化热障层(20)；以及多个开口(30)，所述多个开口(30)中的每一个贯穿图案化热障层(20)。

著录项

公开/公告号CN110431251A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-11-08

原文格式PDF
申请/专利权人京东方科技集团股份有限公司;
展开▼

申请/专利号CN201780002061.3
发明设计人皇甫鲁江;
展开▼

申请日2017-12-14
分类号C23C14/28(20060101);H01L51/00(20060101);
代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;
代理人彭瑞欣;张天舒
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
入库时间 2024-02-19 15:35:03

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-12-03

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/28 申请日:20171214

实质审查的生效
2019-11-08

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 用于将沉积材料沉积在受体基板上的供体基板、用于沉积沉积材料的方法、以及制造供体基板的方法 [P] . 中国专利： CN110431251A . 2019-11-08
2. 辐射装置、用于在基板上沉积材料的沉积设备和用于在基板上沉积材料的方法 [P] . 中国专利： CN112840443A . 2021-05-25
3. DONOR SUBSTRATE FOR DEPOSITING DEPOSITION MATERIAL ON ACCEPTOR SUBSTRATE, METHOD OF DEPOSITING DEPOSITION MATERIAL, AND METHOD OF FABRICATING DONOR SUBSTRATE [P] . US2021223682A1 . 2021-07-22

机译：用于沉积在受体底物上的沉积材料的供体基材，沉积沉积材料的方法，以及制造供体基材的方法
4. DONOR SUBSTRATE FOR DEPOSITING DEPOSITION MATERIAL ON ACCEPTOR SUBSTRATE, METHOD OF DEPOSITING DEPOSITION MATERIAL, AND METHOD OF FABRICATING DONOR SUBSTRATE [P] . EP3724369A4 . 2021-12-22

机译：用于沉积在受体衬底上的沉积材料的供体基材，沉积沉积材料的方法，以及制造供体基材的方法
5. Apparatus for material deposition on a substrate in a vacuum deposition process, system for sputter deposition on a substrate, and method for manufacturing an apparatus for material deposition on a substrate [P] . 韩国专利： KR20190008436A . 2019-01-23

机译：用于在真空沉积工艺中将材料沉积在基板上的设备，用于在基板上进行溅射沉积的系统以及制造用于在基板上进行材料沉积的设备的方法

获取专利

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号