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机译:LBL纳米复合薄膜的直接写入无掩模光刻及其对MEMS技术的前景
Yongxiao Bai; Szushen Ho; Nicholas A. Kotov;
机译:直写式无掩模光刻系统的压缩算法的全芯片表征
机译:用于直接写式无掩模光刻系统的降低复杂度的压缩算法
机译:飞秒激光脉冲诱导的硅衬底图案化氧化的直接写入无掩模光刻
机译:直接写入无掩模光刻系统的无损压缩算法的体系结构和硬件设计。
机译:直写式无掩模光刻系统的降低复杂度压缩算法
机译:直写无掩模光刻系统无损压缩算法的体系结构和硬件设计
机译:用于确定补偿光刻术的起始位置和姿势的无影制版术设备以及确定无光刻术的光刻术的起始位置和构象的方法
机译:适用于自适应光学或无掩模光刻的分段MEMS反射镜
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