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Recent developments in the III-nitride materials

机译:III族氮化物材料的最新发展

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摘要

We review a selection of recent research work on Ill-nitride materials, limiting the scope to bulk properties and quantum well structures. The different stages of development of the compounds AlN, GaN and InN are illustrated, with reference to the electronic properties demonstrated so far. The important alloy systems AlxGa1-xN and InxGa1-xN have quite different properties, still not understood in detail for high Al and In contents, respectively. Some important unresolved issues are highlighted, and possible future directions of the materials development are indicated. (c) 2007 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.
机译:我们回顾了最近关于III族氮化物材料的研究成果,将其范围限制在整体性质和量子阱结构上。参考到目前为止已证明的电子性能,说明了化合物AlN,GaN和InN的不同开发阶段。重要的合金体系AlxGa1-xN和InxGa1-xN具有完全不同的性能,对于高Al和In含量,仍未详细了解。突出了一些重要的未解决的问题,并指出了材料开发的未来可能方向。 (c)2007威利海姆威莱赫-维奇出版社有限公司。

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