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机译:液相束笔光刻
He Shu; Xie Zhuang; Park Daniel J.; Liao Xing; Brown Keith A.; Chen Peng-Cheng; Zhou Yu; Schatz George C.; Mirkin Chad A.;
机译:用于电子束光刻的化学放大抗蚀剂的线宽粗糙度的抵抗厚度依赖性
机译:电子束光刻技术,用于在非平坦的悬浮基板上接触单个纳米线
机译:凸起双光子光刻中具有非均匀梁的均匀印刷剂量补偿
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:像差校正电子束光刻对悬浮石墨烯器件电子传输的影响的原位研究
机译:Ga +束光刻技术用于悬挂的横向束和纳米线
机译:用于制造集成电路的光刻设备,具有被布置为可被两个光束穿透的相移掩模,其中相移掩模包括引起光束相移不同的区域。
机译:束引导系统,用于聚焦地引导例如X射线的X射线束。二氧化碳高功率激光照射到锡滴上进行EUV光刻,具有反射镜,该反射镜可部分补偿光束引起的反射镜导光特性的变化
机译:电子束光刻设备和用于补偿电子束未对准的方法
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