Erratum: Ni-Silicide growth kinetics in Si and Si/SiO_2 core/shell nanowires (Nanotechnology)

Otaga K.; Sutter E.; Zhu X.; Hofmann S.

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Erratum: Ni-Silicide growth kinetics in Si and Si/SiO_2 core/shell nanowires (Nanotechnology)

机译：勘误：Si和Si / SiO_2核/壳纳米线中硅化镍的生长动力学（纳米技术）

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《Nanotechnology》 |2011年第46期|共1页
作者
Otaga K.; Sutter E.; Zhu X.; Hofmann S.;
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正文语种 eng
中图分类特种结构材料;
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