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机译:用于极端紫外光刻的射频电离氙Z夹源
机译:用于极端紫外光刻的射频电离氙Z夹源
机译:不同dI / dt放电电流脉冲驱动的氙毛细管Z夹极端紫外光刻技术的特性
机译:实验测试室设计,用于光学曝光测试和氙气放电产生的等离子体源的碎片表征,用于极端紫外光刻
机译:电流脉冲宽度对氙Z夹放电等离子体在极紫外光源下的影响
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:激光触发的Z捏宽带极紫外光源用于计量
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。