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机译:用位置误差分析滚动数字掩模光刻的图案质量
Yonsei Univ Sch Mech Engn Nano Photon Lab 50 Yonsei Ro Seoul 03722 South Korea;
Yonsei Univ Sch Mech Engn Nano Photon Lab 50 Yonsei Ro Seoul 03722 South Korea;
Yonsei Univ Sch Mech Engn Nano Photon Lab 50 Yonsei Ro Seoul 03722 South Korea;
机译:使用新开发的数字镜面设备光刻设备在深蚀刻或倾斜表面上进行无掩模光刻精细图案化以及灰度光刻
机译:数字无掩模光刻中图案线宽的实验分析
机译:使用数字微镜器件分析无掩模光刻中的线型宽度和曝光效率
机译:在使用数字微镜器件的无光掩模光刻中,在衍射效应下影响图案保真度和线条边缘粗糙度的参数
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:下一代非真空无掩模低温纳米粒子墨水激光数码直接金属图案的大面积软性电子
机译:电子图案切换和掩模微束减速光刻系统中的电子模式切换和10×模式脱磁
机译:在无掩模微离子束减少光刻系统中演示电子图案切换和10倍图案缩小