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机译:在单层WSE2中抑制自由激子的平面外极化性
Natl Univ Singapore Dept Phys 2 Sci Dr 3 Singapore 117551 Singapore;
Natl Univ Singapore Dept Phys 2 Sci Dr 3 Singapore 117551 Singapore;
Natl Inst Mat Sci 1-1 Namiki Tsukuba Ibaraki 3050044 Japan;
Natl Inst Mat Sci 1-1 Namiki Tsukuba Ibaraki 3050044 Japan;
Natl Univ Singapore Dept Phys 2 Sci Dr 3 Singapore 117551 Singapore;
monolayer; 2D material; photoluminescence; Stark effect; polarizability; exciton;
机译:在单层WSE2中抑制自由激子的平面外极化性
机译:exfoliated monolayer wse2中的谷极化激子动态
机译:具有转移诱导层波纹的MOSE2 / WSE2异质层高度线性偏振杂交激子发射的出现
机译:在单层WSe2中通过激子的冲击激发进行电致发光。
机译:考虑到辐射电子空穴重组单层WSE2和SiO2之间的界面热敏性
机译:通过上转换在单层WSe2中启用谷选择性激子散射
机译:在高磁场下应变WSE2单层亮激子线性极化发射的异常旋转