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【24h】

Bottom-up growth of epitaxial graphene on 6H-SiC(0001)

机译:在6H-SiC(0001)上自底向上生长外延石墨烯

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摘要

We use in situ low temperature scanning tunneling microscopy (STM) to investigate the growth mechanism of epitaxial graphene (EG) thermally grown on Si-terminated 6H-SiC(0001). Our detailed study of the transition from monolayer EG to trilayer EG reveals that EG adopts a bottom-up growth mechanism. The thermal decomposition of one single SiC bilayer underneath the EG layers causes the accumulation of carbon atoms to form a new graphene buffer layer at the EG/SiC interface. Atomically resolved STM images show that the top EG layer is physically continuous across the boundaries between the monolayer and bilayer EG regions and between the bilayer and trilayer EG regions.
机译:我们使用原位低温扫描隧道显微镜(STM)来研究在以硅为末端的6H-SiC(0001)上热生长的外延石墨烯(EG)的生长机理。我们对从单层EG过渡到三层EG的详细研究表明,EG采用了自下而上的生长机制。 EG层下面一个SiC双层的热分解会导致碳原子的积累,从而在EG / SiC界面处形成新的石墨烯缓冲层。原子分辨的STM图像显示,顶层EG层在单层和双层EG区之间以及双层和三层EG区之间的边界上物理连续。

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