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机译:嵌段共聚物特征尺寸对硅反应离子蚀刻图案转移的影响
Ist Nazl Ric Metrol INRIM Str Cacce 91 I-10135 Turin Italy;
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CNR IMM Lab MDM Via C Olivetti 2 I-20864 Agrate Brianza Italy;
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block copolymers; reactive ion etching; self-assembly; cryogenic RIE; holey silicon;
机译:嵌段共聚物特征尺寸对硅反应离子蚀刻图案转移的影响
机译:聚(2-乙烯基萘)-嵌段-聚(丙烯酸)嵌段共聚物:自组装图形的形成,排列和通过等离子蚀刻转移到硅中
机译:源自PS-PDMS嵌段共聚物图案的高纵横比致密堆积15至10nm以下硅特征的低温等离子体蚀刻
机译:使用CF4蚀刻用碳硬掩模(CHM)作为掩模使用CF4蚀刻的23nm-径块共聚物自组装纳米块的图案转移
机译:聚异丁烯/聚苯乙烯基三嵌段和五嵌段共聚物是通过准碳阳离子聚合和原子转移自由基聚合的组合而合成的。
机译:嵌段共聚物胶束膜引导金纳米粒子的表面附着及其在硅刻蚀中的应用
机译:嵌段共聚物特征尺寸对硅反应离子蚀刻图案转移的影响