...
机译:L1(0) - 由自组装嵌段共聚物光刻图案化的L1(0)的热稳定性
MIT Dept Mat Sci &
Engn 77 Massachusetts Ave Cambridge MA 02139 USA;
MIT Dept Mat Sci &
Engn 77 Massachusetts Ave Cambridge MA 02139 USA;
MIT Dept Mat Sci &
Engn 77 Massachusetts Ave Cambridge MA 02139 USA;
MIT Dept Mat Sci &
Engn 77 Massachusetts Ave Cambridge MA 02139 USA;
magnetic switching volume; L1(0) structure; block copolymer lithography; PS-b-PDMS; pattern transfer;
机译:L1(0) - 由自组装嵌段共聚物光刻图案化的L1(0)的热稳定性
机译:FePt型交换耦合复合位图介质的嵌段共聚物光刻法制备
机译:自组装嵌段共聚物的图案化官能化和胺端基聚二甲基硅氧烷的选择性吸附制备SiO2 sub>纳米点阵列
机译:结合嵌段共聚物自组装和电子束光刻技术选择性图案化金属纳米点的制备
机译:图案化有机硅烷自组装单分子层,嵌段共聚物光刻和薄膜性能,以及光诱导形成聚合物刷和单分子层。
机译:自组装纳米特征在复杂的三维地形图中通过纳米压印和嵌段共聚物光刻技术
机译:嵌段共聚物光刻图案化CoFeB垂直磁隧道结阵列的磁反转和热稳定性