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【24h】

Ion transport by gating voltage to nanopores produced via metal-assisted chemical etching method

机译:通过金属辅助化学蚀刻方法浇注到纳米孔中的离子传输

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摘要

In this work, we report a simple and low-cost way to create nanopores that can be employed for various applications in nanofluidics. Nano sized Ag particles in the range from 1 to 20 nm are formed on a silicon substrate with a de-wetting method. Then the silicon nanopores with an approximate 15 nm average diameter and 200 mu m height are successfully produced by the metal-assisted chemical etching method. In addition, electrically driven ion transport in the nanopores is demonstrated for nanofluidic applications. Ion transport through the nanopores is observed and could be controlled by an application of a gating voltage to the nanopores.
机译:在这项工作中,我们报告了一种简单而低成本的方式来创建纳米孔,可以用于纳米流体中的各种应用。 纳米大小的Ag颗粒在1至20nm的范围内,形成在具有脱润的方法的硅衬底上。 然后通过金属辅助化学蚀刻方法成功地制造具有近15nm平均直径和200μm高度的硅纳米孔。 另外,纳米孔中的电驱动离子传输被证明用于纳米流体应用。 观察到通过纳米孔的离子传输,并且可以通过向纳米孔施加门控电压来控制。

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