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机译:用于二维MOS2原子层薄膜的无化学气相沉积溶液加工合成方法
Hoseo Univ Dept Display Engn Asan 31499 South Korea;
Hoseo Univ Dept Display Engn Asan 31499 South Korea;
2D; CVD-free; solution-process; MoS2;
机译:用于二维MOS2原子层薄膜的无化学气相沉积溶液加工合成方法
机译:通过无氢和无助催化剂的化学气相沉积合成大规模二维MoS2原子层
机译:化学气相沉积法合成大面积MoS2原子层
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机译:氮化镍膜的原子层沉积和直接液化化学气相沉积及其转化为硅化镍膜。
机译:紫外臭氧处理对MoS2单层的影响:化学气相沉积多晶薄膜与机械剥离单晶薄片的比较
机译:通过化学气相沉积途径简单地合成介电基板上的大面积多层石墨烯薄膜(通过CVD途径合成介电基板上的MLG薄膜)