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机译:使用气体粉末作为单一前体的物理气相沉积同时生长Ga2S3和气体薄膜
Chung Ang Univ Dept Phys Seoul 06974 South Korea;
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Chung Ang Univ Dept Phys Seoul 06974 South Korea;
Chung Ang Univ Dept Phys Seoul 06974 South Korea;
gallium sulfide; physical vapor deposition; Raman; XRD; XPS; SEM;
机译:使用气体粉末作为单一前体的物理气相沉积同时生长Ga2S3和气体薄膜
机译:用固体粉末前体对太阳盲紫外线光电探测化学气相沉积Sn掺杂β-Ga_2O_3薄膜的生长和表征
机译:从化学性质稳定的单源金属有机前驱体通过化学气相沉积法生长半导体硫化铁薄膜
机译:使用异丙醇用于氧前体的金属化学气相沉积ZnO薄膜的生长
机译:通过大气压金属有机化学气相沉积(AP-MOCVD)开发用于氧化锌薄膜生长的新型单源前驱体,用于微电子器件。
机译:杂化钙钛矿的新型物理气相沉积方法:通过射频磁控溅射法生长MAPbI3薄膜。
机译:α-(ALXGA1-X)2O3单层和异质结构缓冲剂,用于通过雾化学气相沉积生长导电Sn掺杂α-Ga2O3薄膜