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机译:通过激光照射的MOS2的逐层变薄
Univ Ulsan Sch Mech Engn Ulsan 44610 South Korea;
Natl Inst Stand &
Technol Mat Measurement Lab Appl Chem &
Mat Div Boulder CO 80305 USA;
Natl Inst Stand &
Technol Mat Measurement Lab Appl Chem &
Mat Div Boulder CO 80305 USA;
Univ Ulsan Sch Mech Engn Ulsan 44610 South Korea;
atomic force microscopy; layer-by-layer thinning; molybdenum disulfide; nanoparticles; laser irradiation;
机译:通过激光照射的MOS2的逐层变薄
机译:利用气相化学气相沉积技术,通过逐层控制原子薄的MoS2薄膜的厚度来进行快速晶圆级制造
机译:通过等离子体辐照和后退火使石墨烯逐层变薄
机译:逐层模拟和控制石墨烯层的逐层飞秒激光变薄
机译:通过准分子激光辐照用于薄膜晶体管的晶体硅薄膜。
机译:MoS2的激光细化和图案化
机译:逐层组装MOS2薄膜作为用于小分子的激光解吸/电离质谱分析的有效平台