...
机译:通过溅射深度剖析测量掩埋界面的粗糙度
机译:通过溅射深度剖析测量掩埋界面的粗糙度
机译:溅射引起的表面粗糙度的定量评估及其对多晶Ni / Cu多层薄膜的AES深度分布的影响
机译:非高斯粗糙度对溅射深度分布的影响
机译:测量原生氧化物,晶体硅,掩埋氧化物层的厚度以及SOI的界面粗糙度
机译:溅射中性分子的强场光电离,用于化学成像和深度分析。
机译:重构具有不同溅射速率的有机材料的精确ToF-SIMS深度剖面
机译:通过溅射深度分析测量埋地界面的粗糙度
机译:离子束溅射和深度剖析:关于诱导粗糙度的特征及其最佳固化方法