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机译:3D单光子光刻的接近效应校正
机译:3D单光子光刻的接近效应校正
机译:金属多层电子束光刻中的邻近效应校正
机译:金属多层电子束光刻中的邻近效应校正
机译:调整用于掩模工艺校正(MPC)的光学邻近校正(OPC)软件。模块2:基于光学掩模书写工具模拟的光刻模拟
机译:通过光学邻近校正来补偿极紫外光刻图像场边缘效应。
机译:通过原位3D纳米光刻技术对光通信引擎进行混合多芯片组装
机译:用于电子束光刻的高对比度3D接近校正:用于制造悬挂掩模的使能技术,用于在UHV环境中完成器件制造