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机译:通过脉冲激光沉积和阴极溅射对掺Sn的In_(2)O_(3)薄膜的光学和电学性质介于0.4和12μm之间
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机译:通过脉冲激光沉积技术制备的Bi_2v_(1-χ)nb_χo_(5.5)(0≤χ≤0.4)薄膜的结构,光学和Ac导电特性
机译:通过脉冲激光沉积获得的Sn掺杂CdO薄膜的光学和电学性质
机译:通过脉冲激光沉积制备的Ba_(0.6)Sr_(0.4)Cr_(x)Ti_(1-x)O_(3)薄膜的介电性能
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:脉冲激光沉积沉积的Nb掺杂SrsnO3外延膜的电气和光学性能
机译:Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜的脉冲激光沉积及其光学性质