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机译:利用射频磁控溅射在Cu / Ti / SiO2 / Si衬底上生长的(Zr,Ti)(0.85)(Ca,Sr)(0.15)O-1.85薄膜的结构和电学性质
Dielectric; Thin Film; Embedded Capacitor;
机译:利用射频磁控溅射在Cu / Ti / SiO2 / Si衬底上生长的(Zr,Ti)(0.85)(Ca,Sr)(0.15)O-1.85薄膜的结构和电学性质
机译:溅射压力对Basn0.15Ti0.8503薄膜结构和介电可调性能的影响
机译:射频磁控溅射技术在低温下在p-InP(100)衬底上生长的Pb(Zr_0.52Ti_0.48)O_3薄膜的微结构和电性能研究
机译:射频磁控溅射制备尖晶石Li_4Ti_5O_(12)阳极薄膜的结构和电导率研究
机译:射频磁控溅射未掺杂镧锰矿薄膜的结构,磁性和表面特性。
机译:通过磁控溅射中氮流量的氮气流量调节的Ti-Zr三元氮化物薄膜的结构组成和等离子体特性
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机译:通过mOCVD和RF溅射制备的srTiO(sub 3)(100)上异质外延pb(Zr(sub 0.35)Ti(sub 0.65))O(sub 3)/ srRuO(sub 3)多层薄膜的结构和性质