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机译:SnX4(X = Cl或Br)和PRxH3-x(R = Cyc(hex)或苯基)的大气压化学气相沉积产生的磷化锡涂层
Tin phosphide; Thin film; Apcvd; Precursors; Sn4p3; Films;
机译:SnX4(X = Cl或Br)和PRxH3-x(R = Cyc(hex)或苯基)的大气压化学气相沉积产生的磷化锡涂层
机译:一种通过大气压等离子体化学气相沉积(APCVD)和燃烧化学气相沉积(CCVD)创建含银抗菌涂层的方法
机译:在大气压下化学气相沉积法在涂铂钼箔上对石墨烯涂层腐蚀性能的综合电化学研究
机译:SnCl_4和PCyc〜(hex)_xH_(3-x)的常压化学气相沉积法制备的锡氧化物涂层
机译:大气压化学气相沉积法将非晶碳化硅薄膜沉积在熔融石英上。
机译:气溶胶辅助化学气相沉积的铜基防水和抗菌涂层
机译:大气压等离子体射流化学气相沉积技术制备的多孔硅和二氧化钛涂层-一种用于光伏组件的新型涂层技术