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Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)
Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)
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1.
The PIXBAR OPC for Contact-Hole Pattern in sub-70-nm Generation
机译:
用于70纳米以下世代的接触孔图案的PIXBAR OPC
作者:
KunYuan Chen
;
ChunCheng Liao
;
ShuHaoChen
;
Todd Wey
;
Phoeby Cheng
;
Pinjan (Ryan) Chou
;
Jochen Schacht
;
Dyiann Chou
;
Srividya Jayaram
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
PIXBAR;
OPC;
Pix-based;
Contact-Hole;
Assist-Feature;
process window;
2.
Transistor Layout Configuration Effect on Actual Gate LER
机译:
晶体管布局配置对实际栅极LER的影响
作者:
Guy Ayal
;
Eitan Shauly
;
Israel Rotshtein
;
Ovadya Menadeva
;
Amit Siany
;
Ram Peltinov
;
Yosi Shacham-Diamand
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
3.
Source-mask selection using computational lithography incorporating physical resist models
机译:
使用结合物理抗蚀剂模型的计算光刻技术选择源掩模
作者:
Sanjay Kapasi
;
Stewart Robertson
;
John Biafore
;
Mark D. Smith
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
computational lithography;
resist models;
source-mask;
PROLITH;
LithoWare;
simulation;
SMO;
rigorous models;
physical models;
virtual lithography;
4.
Impact of Lithography Variability on Analog Circuit Behavior
机译:
光刻变化对模拟电路行为的影响
作者:
Christopher Progler
;
Bhaskar Banerjee
;
M. F. Hanif
;
T. Mahzabeen
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
5.
The Nebulous Hotspot and Algorithm Variability
机译:
星云热点和算法变异性
作者:
Alfred K. K. Wong
;
Edmund Y. Lam
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
algorithm variability;
computation lithography;
LPC;
hotspot;
6.
Design specific variation in pattern transfer by via/contact etch process: full-chip analysis
机译:
通过通孔/接触蚀刻工艺设计图案转移的特定变化:全芯片分析
作者:
Valeriy Sukharev
;
Ara Markosian
;
Armen Kteyan
;
Levon Manukyan
;
Nikolay Khachatryan
;
Jun-Ho Choy
;
Hasmik Lazaryan
;
Henrik Hovsepyan
;
Seiji Onoue
;
Takuo Kikuchi
;
Tetsuya Kamigaki
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
plasma etch;
microloading;
pattern density;
full-chip;
simulation;
7.
Interval-value Based Circuit Simulation for Statistical Circuit Design
机译:
统计电路设计中基于间隔值的电路仿真
作者:
Qian Ying Tang
;
Costas J. Spanos
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
interval-valued circuit simulation;
statistical design;
variability;
8.
Illustration of Illumination Effects on Proximity, Focus Spillover, and Design Rules
机译:
照明对邻近度,焦点溢出和设计规则的影响的插图
作者:
Lynn T.-N. Wang
;
Anthony Yeh
;
Lilly Kem
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
pattern matching;
annular illumination;
dipole illumination;
off-axis;
defects;
ATT-PSM;
focus;
45nm technology;
9.
Process Variability Band Analysis for Quantitative Optimization of Exposure Conditions
机译:
暴露条件定量优化的过程变异带分析
作者:
John L. Sturtevant
;
Srividya Jayaram
;
Le Hong
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
SMO;
illumination;
NA;
sigma;
Post-OPC verification;
simulation;
PV band;
10.
Timing-Aware Metal Fill For Optimized Timing Impact and Uniformity
机译:
时序感知金属填充,可优化时序影响和均匀性
作者:
Usha Katakamsetty
;
Colin Hui
;
Li-Da Huang
;
Lannie Weng
;
Peter Wu
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
chemical mechanical polishing (CMP);
timing-aware track fill;
place and route;
11.
Exploration of Complex Metal 2D Design Rules Using Inverse Lithography
机译:
利用反光刻技术探索复杂金属2D设计规则
作者:
Simon Chang
;
James Blatchford
;
Steve Prins
;
Scott Jessen
;
Thuc Dam
;
Guangming Xiao
;
Linyong Pang
;
Bob Gleason
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
design rule;
OPC;
lithography simulation;
metal patterning;
12.
Verification of extraction repeating pattern efficiency from many actual device data
机译:
从许多实际设备数据中验证提取重复模式的效率
作者:
Masahiro Shoji
;
Tadao Inoue
;
Masaki Yamabe
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
DFM;
OPC;
mask writing;
character projection;
13.
Directional 2D functions as models for fast layout pattern transfer verification
机译:
定向2D用作快速布局图案转移验证的模型
作者:
J. Andres Torres
;
Mark Hofmann
;
Oberdan Otto
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
DFM;
lithography checks;
layout verification;
layout portability;
14.
Hotspot Management for Spacer Patterning Technology with Die-to-Database Wafer Inspection System
机译:
模具到数据库晶圆检查系统的垫片图形化技术热点管理
作者:
Yoshinori Hagio
;
Ichirota Nagahama
;
Yasuo Matsuoka
;
Hidefumi Mukai
;
Kohji Hashimoto
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
spacer patterning process;
die-to-database inspection;
hotspot management;
DFM;
15.
Test Structures for 40 nm Design Rule Evaluation
机译:
40 nm设计规则评估的测试结构
作者:
Jonathan Ho
;
Yan Wang
;
Benjamin Lin
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
design for manufacturability (DFM);
lithography;
16.
Algorithm for determining printability and colouring of a target layout for double patterning
机译:
确定双版图目标版图的可印刷性和着色的算法
作者:
Justin Ghan
;
Apo Sezginer
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
double patterning;
printability;
decomposition;
RET;
17.
Parameter-Specific Electronic Measurement and Analysis of Sources of Variation using Ring Oscillators
机译:
使用环形振荡器的特定参数的电子测量和变化源分析
作者:
Lynn T.-N. Wang
;
Liang-Teck Pang
;
Andrew R. Neureuther
;
Borivoje Nikolic
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
variability;
ring oscillators;
lithography;
DFM;
pattern matching;
focus;
misalignment;
stress;
18.
Computational Requirements for OPC
机译:
OPC的计算要求
作者:
Chris Spence
;
Scott Goad
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
optical proximity correction (OPC);
mask data preparation (MDP);
resolution enhancement technique (RET);
hardware acceleration (HA);
amdahl's law;
19.
Enhanced Layout Optimization of Sub-45nm Standard, Memory Cells and Its Effects
机译:
Sub-45nm标准,存储单元的增强版图优化及其效果
作者:
Seung Weon Paek
;
Dae Hyun Jang
;
Joo Hyun Park
;
Naya Ha
;
Byung-Moo Kim
;
Hyo Sig Won
;
Kyu-Myung Choi
;
Kuang-Kuo Lin
;
Simon Klaver
;
Shobhit Malik
;
Michiel Oostindie
;
Frank Driessen
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
DfM kit(s);
DfM validation;
trade-off;
CAA;
recommended rule;
litho;
primitive cell(s);
leaf-cell(s);
memory compilers;
20.
Detecting Context Sensitive Hot Spots in Standard Cell Libraries
机译:
在标准单元库中检测上下文相关的热点
作者:
Jen-Yi Wuu
;
Fedor G. Pikus
;
Andres Torres
;
Malgorzata Marek-Sadowska
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
DFM;
manufacturability;
lithography;
hot spot detection;
layout optimization;
standard cell library;
21.
Clustering and pattern matching for an automatic hotspot classification and detection system
机译:
自动热点分类和检测系统的聚类和模式匹配
作者:
Justin Ghan
;
Ning Ma
;
Sandipan Mishra
;
Costas Spanos
;
Kameshwar Poolla
;
Norma Rodriguez
;
Luigi Capodieci
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
hotspot classification;
DRC;
pattern-matching;
incremental clustering;
22.
Large-scale double-patterning compliant layouts for DP engine and design rule development
机译:
用于DP引擎和设计规则开发的大规模双模式兼容布局
作者:
Christopher Cork
;
Kevin Lucas
;
John Hapli
;
Herve Raffard
;
Levi Barnes
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
23.
Model-Based adaptive Fragmentation
机译:
基于模型的自适应碎片
作者:
Daisy Liu
;
Cheng He Li
;
Xiao Hui Kang
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
edge placement error;
model-based fragmentation;
optical proximity correction;
grid-based simulation;
24.
Layout Electrical cooptimization for increased tolerance to process variations
机译:
布局电气协同优化,以提高对过程变化的容忍度
作者:
Lionel Riviere-Cazaux
;
Philippe Hurat
;
Bala Kasthuri
;
Larry Layton
;
Nishath Verghese
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
DFM;
design for manufacturing;
yield;
variability;
standard cells;
lithography variability;
shaped gate;
25.
Variability aware interconnect timing models for double patterning
机译:
具有可变性的互连时序模型可用于双模式
作者:
Eric Y. Chin
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
interconnect;
defocus;
dose;
overlay;
extraction;
timing;
DFM;
double patterning;
26.
Hotspot Detection and Design Recommendation Using Silicon Calibrated CMP Model
机译:
使用硅校准的CMP模型进行热点检测和设计建议
作者:
Colin Hui
;
Wang Xian Bin
;
Haigou Huang
;
Ushasree Katakamsetty
;
Laertis Economikos
;
Mohammed Fayaz
;
Stephen Greco
;
Hua Xiang
;
Subramanian Jayathi
;
Yuan Chi-Min
;
Li Song
;
Vikas Mehrotra
;
Kuang Han Chen
;
Tamba Gbondo-Tugbawa
;
Taber Smith
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
chemical mechanical polishing (CMP);
design for manufacturability (DFM);
copper puddling;
topography;
27.
Computational technology scaling from 32 nm to 28 and 22 nm through systematic layout printability verification
机译:
通过系统布局可印刷性验证,将计算技术从32 nm扩展到28和22 nm
作者:
Jason P. Cain
;
Luigi Capodieci
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
design for manufacturability;
computational scaling;
lithographic printability;
process capability;
28.
Compensating Non-Optical Effects using Electrically-Driven Optical Proximity Correction
机译:
使用电驱动的光学邻近校正来补偿非光学效应
作者:
Shayak Banerjee
;
Kanak B. Agarwal
;
James A. Culp
;
Praveen Elakkumanan
;
Lars W. Liebmann
;
Michael Orshansky
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
electrically-driven OPC;
design intent;
systematic variation;
compensation of variability;
29.
Simplify to Survive, prescriptive layouts ensure profitable scaling to 32nm and beyond
机译:
简化为生存性,规范性布局可确保将利润扩展到32nm及更高
作者:
Lars Liebmann
;
Larry Pileggi
;
Jason Hibbeler
;
Vyacheslav Rovner
;
Tejas Jhaveri
;
Greg Northrop
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
design for manufacturability (DfM);
template-based design;
design-technology co-optimization (DTCO);
predictably composable logic;
pdBrix;
30.
Modeling and simulation of transistor performance shift under pattern-dependent RTA process
机译:
模式依赖的RTA工艺下晶体管性能变化的建模与仿真
作者:
Yun Ye
;
Frank Liu
;
Yu Cao
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
rapid-thermal annealing;
layout pattern;
dopant activation;
threshold voltage variation;
physical design;
31.
Tiny Footprint Programmable Electrical Defocus Monitors
机译:
微小的可编程可编程电子散焦监视器
作者:
Wojtek Poppe
;
Patrick Au
;
Darshana Jayasuriya
;
Juliet Rubinstein
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
defocus;
defocus monitor;
electrical process monitor;
process characterization;
DFM;
32.
Variations in timing and leakage power of 45nm library cells due to lithography and stress effects
机译:
光刻和应力效应导致45nm库单元的时序和泄漏功率发生变化
作者:
Kayvan Sadra
;
Mark Terry
;
Arjun Rajagopal
;
Robert A. Soper
;
Donald Kolarik
;
Tom Aton
;
Brian Hornung
;
Rajesh Khamankar
;
Philippe Hurat
;
Bala Kasthuri
;
Yajun Ran
;
Nishath Verghese
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
variations;
timing;
leakage power;
library;
DFM;
LEA;
context dependence;
stress;
33.
Convergent Automated Chip Level Lithography Checking and Fixing at 45nm
机译:
聚合自动芯片级光刻技术在45nm处的检查和固定
作者:
Valerio Perez
;
Shyue Fong Quek
;
Sky Yeo
;
Colin Hui
;
Kuang Kuo Lin
;
Walter Ng
;
Michel Cote
;
Bala Kasthuri
;
Philippe Hurat
;
Matt A. Thompson
;
Chi-Min Yuan
;
Puneet Sharma
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
34.
Integration of Mask and Silicon Metrology in DFM
机译:
DFM中掩膜和硅计量的集成
作者:
Ryoichi Matsuoka
;
Hiroaki Mito
;
Akiyuki Sugiyama
;
Yasutaka Toyoda
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
CD-SEM;
OPC;
recipe generation;
SEM image;
CAD design layout;
DFM;
contour;
hotspot;
35.
Implementing a Framework to Generate a Unified OPC database from different EDA Vendors for 45nm and beyond
机译:
实施框架以从45纳米及以上的不同EDA供应商生成统一的OPC数据库
作者:
Shady Abdel Wahed
;
Mohamed Al-Imam
;
Rami Fathy
;
Nader Hindawy
;
Jochen Schacht
;
Regina Shen
;
Chia Wei Huang
;
Pei Ru Tsai
;
Te Hung Wu
;
Chuen Huei Yang
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
lithography modeling;
model based OPC;
OPC fragmentation;
36.
Design-Overlay Interactions in Metal Double Patterning
机译:
金属双图案中的设计叠加相互作用
作者:
Rani S. Ghaida
;
Puneet Gupta
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
double patterning;
overlay;
overlay control;
alignment strategy;
overlay budget;
DFM;
wire spreading;
wire widening;
congestion;
37.
Design Ranking and Analysis Methodology for Standard Cells and Full Chip Physical Optimization
机译:
标准电池和全芯片物理优化的设计排名和分析方法
作者:
Yosi Vaserman
;
Eitan Shauly
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
DFM;
DFM metrics;
design ranking;
yield scoring;
38.
Practical implementation of via and wire optimization at the SoC level
机译:
在SoC级别上实际实施通孔和布线优化
作者:
Chi-Min Yuan
;
Guy Assad
;
Bob Jarvis
;
Marc Olivares
;
Lionel Riviere Cazeau
;
Puneet Sharma
;
Jayathi Subramanian
;
Matt Thompson
;
Kevin Wu
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
redundant vias;
via doubling;
twin vias;
wire spreading;
wire widening;
litho hotspot;
critical area analysis;
design for manufacturing;
39.
Score-Based Fixing Guidance Generation With Accurate Hot-Spot Detection Method
机译:
精确热点检测方法的基于分数的固视制导
作者:
Yong-Hee Park
;
Dong-Hyun Kim
;
Jung-Hoe Choi
;
Ji-Suk Hong
;
Chul-Hong Park
;
Sang-Hoon Lee
;
Moon-Hyun Yoo
;
Jun-Dong Cho
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
hot-spot detection;
calibrated scoring function;
layout fixing guidance;
process window;
40.
Application of Pixel-based Mask Optimization Technique for High Transmission Attenuated PSM
机译:
基于像素的掩模优化技术在高传输衰减PSM中的应用
作者:
Kyohei Sakajiri
;
Alexander Tritchkov
;
Yuri Granik
;
Eric Hendrickx
;
Geert Vandenberghe
;
Monica Kempsell
;
Germain Fenger
;
Klaus Boehm
;
Thomas Scheruebl
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
inverse lithography;
sub-resolution assist features;
high transmission attenuated PSM;
MRC;
41.
Manufacturing system based on tolerance deduced from design intention
机译:
基于设计意图推论的公差制造系统
作者:
Suigen Kyoh
;
Shimon Maeda
;
Sachiko Kobayashi
;
Soichi Inoue
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
DFM;
design intention;
tolerance;
process budget;
42.
Circuit-topology driven OPC for increased performance/yield ratio
机译:
电路拓扑驱动的OPC可提高性能/良率
作者:
Edmund Pierzchala
;
Fedor Pikus
;
J. Andres Torres
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
DFM;
yield;
performance;
digital circuits;
nanometer design;
43.
Developing DRC Plus Rules through 2D Pattern Extraction and Clustering Techniques
机译:
通过2D模式提取和聚类技术开发DRC Plus规则
作者:
Vito Dai
;
Luigi Capodieci
;
Jie Yang
;
Norma Rodriguez
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
design;
rule;
pattern;
classify;
hotspot;
manufacturability style;
variability;
44.
Process Variation Aware OPC Modeling for Leading Edge Technology Nodes
机译:
用于前沿技术节点的过程变化感知OPC建模
作者:
Qiaolin(Charlie) Zhang
;
Ebo Croffie
;
Yongfa Fan
;
Jianliang Li
;
Kevin Lucas
;
Brad Falch
;
Lawrence Melvin
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
lithography;
optical proximity correction (OPC);
lithography verification;
continuous process window model;
focus-exposure matrix;
Bossung curve;
model calibration;
45.
Contour-based Optical Proximity Correction
机译:
基于轮廓的光学邻近校正
作者:
Brian Zhou
;
Liang Zhu
;
Yingchun Zhang
;
Yili Gu
;
Xiaohui Kang
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
resolution enhancement technologies;
optical proximity correction;
edge placement error;
OPCIter;
dense simulation;
46.
Statistical approach to design DRAM bitcell considering overlay errors
机译:
考虑覆盖误差的统计方法设计DRAM位单元
作者:
Yu-Jin Pyo
;
Dae-Wook Kim
;
Jai-Kyun Park
;
Ji-Seong Doh
;
Hyun-Jae Kang
;
Ji-Suk Hong
;
Chul-Hong Park
;
Sang-Hoon Lee
;
Moon-Hyun Yoo
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
overlay specification;
monte carlo simulation;
DRAM bitcell;
systematic yield;
parametric yield;
47.
High-precision contouring from SEM image in 32-nm lithography and beyond
机译:
通过SEM图像在32-nm光刻技术及其他方面的高精度轮廓
作者:
Hiroyuki Shindo
;
Akiyuki Sugiyama
;
Hitoshi Komuro
;
Yutaka Hojyo
;
Ryoichi Matsuoka
;
John L. Sturtevant
;
Thuy Do
;
Ir Kusnadi
;
Germain Fenger
;
Peter De Bisschop
;
Jeroen Van de Kerkhove
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
OPC;
CD-SEM;
SEM contouring;
model calibration;
MBAC (Measurement Based Averaged Contour) contour-based model calibration;
48.
Uniformity-Aware Standard Cell Design with Accurate Shape Control
机译:
具有精确形状控制的统一性标准单元设计
作者:
Hongbo Zhang
;
Martin D. F. Wong
;
Kai-Yuan Chao
;
Liang Deng
;
Soo-Han Choi
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
standard cell design;
1-D patterning;
gap distribution;
dense line printing;
double patterning;
49.
Implementing Self-Aligned Double Patterning on Non-Gridded Design Layouts
机译:
在非网格设计布局上实现自对准双图案
作者:
Huixiong Dai
;
Jason Sweis
;
Chris Bencher
;
Yongmei Chen
;
Jen Shu
;
Xumon Xu
;
Chris Ngai
;
Judy Huckabay
;
Milind Weling
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
sidewall spacer;
double patterning;
self-aligned;
layout decomposition;
SSDP;
SADP;
50.
Systematic study of the impact of curved active and poly contours on transistor performance
机译:
系统研究弯曲的活动轮廓和多边形轮廓对晶体管性能的影响
作者:
Victor Moroz
;
Munkang Choi
;
Xi-Wei Lin
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
optical proximity effects;
simulation;
curved channel;
TCAD;
corner rounding;
3D device analysis;
transistor degradation;
transistor layout engineering;
layout optimization;
shape engineering;
51.
Lithography Aware Statistical Context Characterization of 40nm Logic Cells
机译:
40nm逻辑单元的光刻意识统计背景表征
作者:
Mark E. Rubin
;
Naohiro Kobayashi
;
Toshiaki Yanagihara
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
52.
Full-flow for transistors simulation based on edge-contour extraction and Advanced SPICE simulation
机译:
基于边缘轮廓提取和高级SPICE仿真的全流晶体管仿真
作者:
Eitan Shauly
;
Andres Torres
;
Loran Friedrich
;
Moran Cohen-Yasour
;
Ovadya Menadeva
;
Fedor Pikus
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
53.
Electrical Impact of Line-Edge Roughness on Sub-45nm Node Standard Cell
机译:
线边缘粗糙度对低于45nm节点标准单元的电影响
作者:
Yongchan Ban
;
Savithri Sundareswaran
;
Rajendran Panda
;
David Z. Pan
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
LER;
line-edge roughness;
sub-45nm process;
standard cell;
circuit performance;
DFM;
54.
Hierarchical Modeling of Spatial Variability with a 45nm Example
机译:
具有45nm示例的空间变异性的层次建模
作者:
Kun Qian
;
Borivoje Nikolic
;
Costas J. Spanos
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
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2009年
关键词:
circuit variability;
across-wafer variation;
45nm;
ring oscillator;
pattern dependent effect;
55.
2D Design Rule and Layout Analysis using Novel Large-area First-principles-based Simulation Flow Incorporating Lithographic and Stress Effects
机译:
结合光刻和应力效应的新型大面积基于第一原理的仿真流程进行二维设计规则和布局分析
作者:
Steven L. Prins
;
James Blatchford
;
Oluwamuyiwa Olubuyide
;
Deborah Riley
;
Simon Chang
;
Qi-Zhong Hong
;
T. S. Kim
;
Ricardo Borges
;
Li Lin
会议名称:
《Conference on design for manufacturability through design-process integration III; 20090226-27; San Jose, CA(US)》
|
2009年
关键词:
stress variability;
design rules;
mobility;
random context;
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