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International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics
International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics
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1.
Laser-Tip Interaction Part Two: Light Absorption by Nanoscale Semiconducting Tips in Laser-Assisted Atom Probe Tomography
机译:
激光尖端相互作用部分:激光辅助原子探测断层扫描中的纳米级半导体提示光吸收
作者:
J. Bogdanowicz
;
M. Gilbert
;
S. Koelling
;
W. Vandervorst
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2014年
关键词:
Semiconductor materials;
Absorption;
Laser-Assisted Atom Probe Tomography;
Mie theory;
2.
TOWARDS NANOELECTRONICS METROLOGY WITH LABORATORY SET-UP IN THE SOFT X-RAY RANGE
机译:
在软X射线范围内使用实验室设置纳米电子计量
作者:
D. Grotzsch
;
B. Kanngiesser
;
I. Mantouvalou
;
C. Herzog
;
K. Witte
;
M. Spanier
;
J. Lubeck
;
P. Honicke
;
B. Beckhoff
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2014年
关键词:
grazing incidence X-ray fluorescence analysis;
grazing exit X-ray fluorescence analysis;
laser-produced plasma-source;
3.
MULTI-TECHNIQUE APPROACH FOR DETERMINATION OF CRYSTALLINE PHASE AND ELECTRONIC STRUCTURE OF ATOMIC LAYER DEPOSITED HF_(1-X)ZR_XO_2
机译:
用于测定原子层沉积HF_(1-X)Zr_XO_2的晶相和电子结构的多技术方法
作者:
Relja Vasic
;
Steven Consiglio
;
Robert Clark
;
Kandabara Tapily
;
Manasa Medikonda
;
Gangadhara Raja Muthinti
;
Eric Bersch
;
Gert Leusink
;
Alain Diebold
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2014年
关键词:
high k dielectrics;
spectroscopy;
NEXAFS;
crystalline structure;
electronic structure;
4.
fabrication And Characterization Of Standards For Atomic Force Microscope Tip Width Calibration
机译:
原子力显微镜尖端宽度校准标准的制造与表征
作者:
Ronald Dixson
;
Craig McGray
;
Boon Ping Ng
;
Ndubuisi G. Orji
;
Jon Geist
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2014年
关键词:
CD-AFM;
tip width;
linewidth standard;
SCCDRM;
lattice-selective etch;
traceability;
5.
MEASUREMENT UNCERTAINTIES IN MEMS KINEMATICS BY SUPER-RESOLUTION FLUORESCENCE MICROSCOPY
机译:
通过超分辨率荧光显微镜测量MEMS运动学中的测量不确定性
作者:
Craig D. McGray
;
Samuel M. Stavis
;
Jon Geist
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2014年
关键词:
Uncertainty;
Super-Resolution;
Fluorescence Microscopy;
Localization Precision;
MEMS;
Kinematics;
Nanoscale;
Nanometer;
6.
Characterization and Metrology Challenges for Emerging Memory Technology Landscape
机译:
新兴记忆技术景观的特征和计量挑战
作者:
Naga Chandrasekaran
;
Steve Huges
;
Shifeng Lu
;
Du Li
;
Chris Bishop
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2014年
关键词:
Memory Devices;
Emerging Memory;
Metrology Challenges;
Material Characterizaton;
Vertical NAND;
7.
A MIRROR-CORRECTED SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
机译:
镜像校正扫描电子显微镜
作者:
M. Steigerwald
;
C. Hendrich
;
D. Preikszas
;
K. Schubert
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2014年
关键词:
Scanning electron microscope;
mirror corrector;
high-resolution imaging;
high-resolution analysis;
8.
Frontiers In Defect Detection
机译:
缺陷检测中的边界
作者:
Lothar Pfitzner
;
Sabrina Anger
;
Matthias Koitzsch
;
Markus Pfeffer
;
Georg Roeder
;
Martin Schellenberger
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2014年
关键词:
yield enhancement;
ITRS;
defects;
inspection;
x-ray;
metrology;
zero defect resizing;
9.
ADVANCED METROLOGY FOR UNDERSTANDING CHARGE TRANSPORT PHENOMENA IN CHARGE TRAP FLASH MEMORY
机译:
用于了解充电陷阱闪存中的充电传输现象的高级计量
作者:
Gyeong-Su Park
;
Sung Heo
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2014年
关键词:
Charge trap flash memory;
charge transport;
Si-nanocrystal;
band structure;
defect states;
10.
X-ray Tomography for Process Development and Failure Analysis
机译:
用于过程开发和失败分析的X射线断层扫描
作者:
Jurgen Gluch
;
Sven Niese
;
Adam Kubec
;
Stefan Braun
;
Ehrenfried Zschech
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Nano X-ray tomography;
X-ray microscopy;
multilayer Laue lense;
11.
Impact Of Line Edge Roughness Patterns On The Reconstructed Critical Dimensions In Scatterometry
机译:
线边缘粗糙度模式对散射测定法重建临界尺寸的影响
作者:
H. Gross
;
S. Heidenreich
;
M.-A. Henn
;
F. Scholze
;
G. Dai
;
A. Rathsfeld
;
M. Bar
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Scatterometry;
line edge roughness (LER);
finite element method (FEM);
Fourier optics;
Fraunhofer approximation;
12.
Breakthrough of STEM and FIB Automation in Critical Dimension Metrology of Wafer Manufacturing
机译:
晶圆制造临界维度计量茎和FIB自动化的突破
作者:
Jianxin Fang
;
Wei Hong
;
Jose Garjado
;
Juanita Castillo
;
Zhipeng Li
;
Haifeng Wang
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Transmission electron microscopy;
scanning transmission electron microscopy;
metrology;
ex-situ sample transfer;
focused ion beam;
automation;
wafer manufacturing;
CD-STEM;
CD-SEM;
13.
300mm and 450mm Standard Calibration Wafers - A Standard Tool for Semiconductor Metrology Calibration and Matching
机译:
300mm和450mm标准校准晶片 - 半导体计量校准和匹配的标准工具
作者:
Rand Cottle
;
Menachem Shoval
;
Yuval Agami
;
Frank Tolic
;
Stephen Bennett
;
Martin Rodgers
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
450mm;
metrology;
SPC;
calibration;
reference standards;
semiconductor;
IC;
CD;
ellipsometry;
inspection;
14.
Novel Scanning Acoustic Microscopy Technologies Applied To 3D Integration Applications
机译:
新型扫描声学显微镜技术应用于3D集成应用
作者:
Peter Czurratis
;
Sebastian Brand
;
Tatjana Djuric
;
Peter Hoffrogge
;
Matthias Petzold
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
3D integration;
Failure Analysis;
Acoustic Microscopy;
SAM;
GHz-SAM;
Acoustical Imaging;
Non-Destructive Testing;
15.
Barrier Modification of Metal-contact on Silicon by Sub-2 nm Platinum Nanoparticle
机译:
副2纳米铂纳米粒子硅接触的屏障改性
作者:
H. Zheng
;
S. C. Su
;
S. Mukherjee
;
K. Gangopadhyay
;
S. Gangopadhyay
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
16.
High Precision X-Ray Multilayer Mirrors For Customized Solutions
机译:
高精度X射线多层镜,用于定制解决方案
作者:
S. Niese
;
M. Kramer
;
T. Holz
;
P. Kruger
;
S. Braun
;
E. Zschech
;
R. Dietsch
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
X-ray optics;
X-ray microscopy;
X-ray mirror;
X-ray diffraction;
Multilayer;
17.
Scatterometry, OCD, reference standard, CD metrology, GISAXS, tool matching, rigorous modelling
机译:
散射测定法,OCD,参考标准,CD计量,GISAX,工具匹配,严格的建模
作者:
E. Capria
;
J. Beaucourt
;
I. Bertrand
;
N. Bicais
;
E. Boller
;
C. Curfs
;
G. Chahine
;
A. Fitch
;
R. Kluender
;
T. A. Lafford
;
Y. M. Le-Vaillant
;
F. Lorut
;
J. S. Micha
;
E. Mitchell
;
O. Robach
;
J. C. Royer
;
T. U. Schulli
;
J. Segura-Ruiz
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
X-ray;
synchrotron;
neutron;
characterization;
industry;
3D integration;
tomography;
residual strain;
18.
Conductive Diamond Probes for Advanced Atomic Force Microscopy
机译:
用于高级原子力显微镜的导电金刚石探针
作者:
V. Usov
;
N. OHara
;
Z. Xiapu
;
D. Scanlan
;
A. Potie
;
J. Boland
;
G.L.W. Cross
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Atomic force microcopy;
AFM probes;
diamond AFM probes;
CD AFM;
19.
Nanoelectronics For Metrology
机译:
计量纳米电子学
作者:
Klaus von Klitzing
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Quantum Hall effect;
Watt balance;
SI system;
20.
Electron Energy-Loss Spectroscopy (EELS) Analysis on MoS_2 Layers Transferred on Silicon
机译:
电子能损光谱(EELS)在硅中转移MOS2层的分析
作者:
Karine Florent
;
David MacMahon
;
Andrea Brothers
;
Santosh Kurinec
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
MoS_2;
TEM;
Electron energy loss spectroscopy (EELS);
Exfoliated layer transfer;
21.
Potential Of The EsB Detector In The Low Voltage Scanning Electron Microscopy (LVSEM): Application In Microelectronics
机译:
低压扫描电子显微镜(LVSEM)中的ESB检测器的电位:在微电子中的应用
作者:
Aranzazu Garitagoitia Cid
;
Rudiger Rosenkranz
;
Martin Gallv
;
Ehrenfried Zschech
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Low Voltage Scanning Electron Microscopy (LVSEM);
Energy selective Backscattered (EsB) electron detector;
Organosilicate Glass (OSG) thin film;
shrinkage;
Backscattered electron (BSE);
22.
Metrology Challenges Towards N7
机译:
Metrologology对N7的挑战
作者:
Philippe Leray
;
Dieter Van den Heuvel
;
Sandip Hadler
;
Anne Laure Charley
;
Stephane Godny
;
Vincent Truffert
;
Christiane Jehoul
;
Bart Baudemprez
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Metrology;
Defectivity;
Overlay;
Scatterometry;
Focus;
Control;
Hybrid;
23.
Terahertz Time-Domain Spectroscopy for Characterization of Doping Profiles in Semiconductors
机译:
用于在半导体中表征掺杂曲线的Terahertz时域光谱
作者:
Santosh Kurinec
;
Chih Yu Jen
;
Gaurav Tulsyan
;
Christiaan Richter
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Doping profile;
terahertz time-domain spectroscopy (THz-TDS);
24.
Positron Annihilation Spectroscopy for Porosimetry of Micro- and Meso-porous Systems
机译:
微型和间隙多孔系统的孔隙率的正电子湮没光谱学
作者:
R. Krause-Rehberg
;
W. Anwand
;
M. Butterling
;
M. Jungmann
;
A. Wagner
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
porosimetry;
micropores;
mesopores;
positron annihilation;
25.
Challenges and solutions for Chip Package Interaction
机译:
芯片包交互的挑战和解决方案
作者:
K. Vanstreels
;
V. Cherman
;
H. Zahedmanesh
;
I. De Wolf
;
M. Gonzalez
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Chip package interaction;
Finite Element Modeling;
nano-indentation;
stress;
adhesion;
26.
Metallic Contamination Analysis of 450 mm Wafers Using VPD-DC-ICPMS and LPD-ICPMS
机译:
使用VPD-DC-ICPMS和LPD-ICPMS的450 mm晶片的金属污染分析
作者:
C. Agraffeil
;
H. Fontaine
;
T. Lardin
;
V. Enyedi
;
D. Noventa
;
B. Charlet
;
G. Delpu
;
T. Brillouet
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
450mm;
metallic contamination;
VPD-DC-ICPMS;
LPD-ICPMS;
27.
Three-Dimensional SEM Metrology for Nanoelectronics
机译:
纳米电子学的三维SEM计量
作者:
Andras E. Vladar
;
John S. Villarrubia
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
nanometer-scale;
SEM;
modeling;
simulation;
measurement;
three dimensional;
3D;
critical dimension;
scanning;
transmission;
electron microscope;
TEM;
small angle x-ray scattering;
CDSAXS;
matching;
28.
Sensitive Nanomaterials Detection and Analysis in Solution
机译:
敏感纳米材料检测与分析溶液
作者:
Janahan Ramanan
;
Basil G. Eleftheriades
;
Bhagrava Ravoori
;
Marie Tripp
;
Tuyen K. Tran
;
Amr S. Helmy
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Nanomaterials detection;
Chemically Specific Sensing;
Optical Spectroscopy;
Optofluidics;
Handheld Sensors;
29.
Defect Inspection for Advanced Technology Nodes
机译:
高级技术节点的缺陷检查
作者:
Tuyen Tran
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
30.
High-Resolution X-ray Diffraction of Epitaxial Thin-Films and Patterned Nanostructures
机译:
外延薄膜和图案纳米结构的高分辨率X射线衍射
作者:
Matthew Wormington
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Metrology;
X-ray diffraction;
thin-films;
nanostructures;
epitaxy;
strain;
stress;
31.
Grazing Incidence X-ray Fluorescence (GI-XRF) For Thin Film And Ultra-thin Film Thickness Metrology
机译:
用于薄膜和超薄膜厚度计量的放牧发病X射线荧光(GI-XRF)
作者:
Charles C Wang
;
Nimoal Sun
;
Jiang Lu
;
Weifeng Ye
;
Chi Ching
;
Yuri Uritsky
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
GI-XRF;
ultra-thin film;
CVD Co;
MRAM;
metal gate;
32.
Optical Constants of Ni_(1-x)Pt_x and Ni_(1-x)Pt_xSi for In-Line Contact Metrology
机译:
NI_(1-X)PT_X和NI_(1-x)PT_XSI的光学常数,用于在线触点计量
作者:
Lina S. Abdallah
;
Stefan Zollner
;
Mark Raymond
;
Ahmet S. Ozcan
;
Christian Lavoie
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Spectroscopic ellipsometry;
contacts;
nickel silicide;
inline metrology;
33.
Combined Nanoindentation And AFAM For Mechanical Characterization Of Ultra Low-k Thin Films
机译:
结合纳米狭窄和AFAM,用于超低k薄膜的机械表征
作者:
Andre Clausner
;
Ehrenfried Zschech
;
Martin Gall
;
Elham Moayedi
;
Yvonne Standke
;
Uwe Muhle
;
Malgorzata Kopycinska-Mueller
;
Kong Boon Yeap
;
Khashayar Pakbaz
;
Sukesh Mahajan
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
ULK;
OSG;
Elastic Modulus;
Nanoindentation;
AFAM;
34.
Analysis Of Defects In SiGe And Ge
机译:
SiGe和GE的缺陷分析
作者:
Abhijeet Joshi
;
James Ewan
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Complete analysis of Activated Layers;
Strain-Effects and Defect Analysis;
Defect Analysis of Germanium;
Germanium epi-layers;
35.
Analysis of Surfaces for Immobilization of Biomolecules using Soft X-Ray Spectrometry
机译:
用软X射线光谱法分析生物分子固定化的表面
作者:
A. Nutsch
;
C. Streeck
;
J. Weser
;
B. Beckhoff
;
D. Grotzsch
;
W. Malzer
;
P. Dietrich
;
T. Fischer
;
C. Nietzold
;
K. Rurack
;
W. Unger
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
bioanalysis;
synchrotron instrumentation;
soft X-rays;
XRF;
NEXAFS;
36.
Simulation of Ga Ion Induced Amorphization in Si during FIB using TRIDYN simulation
机译:
使用Tridyn模拟在FIB期间SI中GA离子诱导的杂化的模拟
作者:
Jin Huang
;
Markus Loeffler
;
Wolfhard Moeller
;
Ehrenfried Zschech
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Focused Ion Beam;
Silicon Amorphization;
Binary Collision Approximation;
37.
Imaging Electron Motion in Nanostructures
机译:
纳米结构中的成像电子运动
作者:
Robert M. Westervelt
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Scanning probe microscope;
image electron motion;
image electron paths;
image electron charge;
image magnetic fields;
38.
Positron annihilation lifetime spectroscopy (PALS) on advanced, self-assembled porous organosilicate glasses
机译:
正电子湮灭寿命光谱(PALS)先进,自组装多孔有机硅酸盐玻璃
作者:
M. Kraatz
;
A. Clausner
;
M. Gall
;
E. Zschech
;
M. Butterling
;
W. Anwand
;
A. Wagner
;
R. Krause-Rehberg
;
K. Pakbaz
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
OSG;
ULK;
PALS;
pore size;
positronium;
Monte Carlo;
39.
Effects of Image Processing on Electron Diffraction Patterns Used for Nanobeam Diffraction Strain Measurements
机译:
用于纳米衍射应变测量的电子衍射图的图像处理的影响
作者:
Mark Williamson
;
Piet van Dooren
;
John Flanagan
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Automation;
Transmission Electron Microscopy;
Nanobeam Electron Diffraction;
Strain;
Image Processing;
Autocorrelation;
40.
3D Stacked System DFM and DFR Requirements for Materials Data and Characterization Techniques
机译:
3D堆叠系统DFM和DFR材料的材料数据和表征技术
作者:
Valeriy Sukharev
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Reliability;
electromigration;
stress;
design verification;
41.
Phase Change Properties and Strain Engineering in 2D Materials
机译:
2D材料中的相变性能和应变工程
作者:
Karel-Alexander Duerloo
;
Yao Li
;
Evan J. Reed
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
phase change material;
graphene;
MoTe2;
strain engineering;
MoS2;
monolayer;
42.
Characterization of Near- to Far-Field Transformers by Interferometric Fourier-Scatterometry
机译:
干涉傅里叶散射测定法对近乎远场变压器的表征
作者:
K. Frenner
;
V. Ferreras-Paz
;
W. Osten
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
interferometric fourier-scatterometry;
plasmonic superlenses;
near- to far-field transformer;
model based reconstruction;
43.
Current Status of CDSAXS: Is it Fab-Ready?
机译:
CDSAXS的当前状态:它准备好了吗?
作者:
Daniel F. Sunday
;
Donald Windover
;
R. Joseph Kline
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Dimensional metrology;
X-ray scattering;
CDSAXS;
44.
Quantifying Ellipsometric Precision for Multichannel Rotating-Element Spectroscopic Ellipsometers
机译:
量化多通道旋转元素光谱椭圆型椭圆型椭圆型椭圆椭偏针的椭圆精度
作者:
Yong Jai Cho
;
Won Chegal
;
Jeong Pyo Lee
;
Hyun Mo Cho
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Ellipsometers;
Fourier analysis;
inversion problem;
measurement and error theory;
45.
Further development of electron tomography
机译:
进一步发展电子断层扫描
作者:
M. Birke
;
D. Utess
;
E. Langer
;
H.-J. Engelmann
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
scanning transmission electron microscopy;
double-tilt;
dual-axis;
electron tomography;
46.
Material Requirements for 3D IC and Packaging
机译:
3D IC和包装的材料要求
作者:
W. R. (Bill) Bottoms
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
3D integration;
composite materials;
nanomaterials;
packaging;
47.
Extreme Ultraviolet Nanometrology for Imaging of New Dynamics in NanoSystems
机译:
纳米系统新动态成像的极端紫外线纳米术学
作者:
Kathleen Hoogeboom-Pot
;
Jorge Hernandez-Charpak
;
Dennis Gardner
;
Matthew Seaberg
;
Bosheng Zhang
;
Travis Frazer
;
Elisabeth Shanblatt
;
Christina Porter
;
Robert Karl
;
Erik Anderson
;
Weilun Chao
;
Justin Shaw
;
Margaret Murnane
;
Henry Kapteyn
;
Daniel Adams
;
Damiano Nardi
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Nanoscale Metrology;
Extreme Ultraviolet;
High-Harmonic Generation;
Tabletop;
Ultrafast;
Coherent Diffractive Imaging;
48.
Sub 20 nm Particle Inspection On EUV Mask Blanks
机译:
EUV掩模空白的亚20 nm粒子检查
作者:
Peter Bussink
;
Jean-Baptiste Volatier
;
Peter van der Walle
;
Erik Fritz
;
Jacques van der Donck
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Particle;
defect;
inspection;
EUV;
mask blank;
equipment qualification;
49.
Thermo-Mechanical Reliability of TSVs
机译:
TSV的热机械可靠性
作者:
Tengfei Jiang
;
Jay Im
;
Rui Huang
;
Paul S. Ho
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
3D integration;
through-silicon via (TSV);
stress;
via extrusion;
microstructure;
FEA;
50.
CMOS Characterization/Metrology Challenges for the Lab to the Fab
机译:
CMOS表征/计量实验室对工厂的挑战
作者:
Paul van der Heide
;
Michael Gribelyuk
;
Jeremy Russell
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Moore analytical needs;
Future analysis methodologies;
Hybrid metrology;
Novel test structures...;
51.
In-Die high resolution nanotopography data, impact in the CMP process monitoring for advanced nodes
机译:
模具高分辨率纳米复印件数据,对高级节点的CMP过程监控影响
作者:
N. Ruiz
;
F. Dettoni
;
M. Rivoire
;
V. Balan
;
C. Beitia
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Nanotopography;
interferometry;
CMP;
die-level;
52.
Transmitted Small Angle X-Ray Scattering Intensity Enhancement with a Designed Grating
机译:
用设计光栅传输小角度X射线散射强度增强
作者:
Wei-En Fu
;
Yen-Song Chen
;
Yun-San Chien
;
Wen-Li Wu
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Transmission small angle X-ray scattering;
gratings;
longitudinal coherence length;
Critical Dimensions;
overlay metrology;
53.
Characterization Challenges in the 28 nm Technology Node
机译:
28 nm技术节点中的特征挑战
作者:
H. Lakner
;
R. Liske
;
E. Reich
;
M. Drescher
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Characterization;
nanoelectronics;
sample preparation;
high-k metal gate;
TEM;
atom probe tomography;
54.
Application of Raman Spectroscopy for Local Stress Methodology and Characterization of Amorphous Carbon and SiGe Films in Semiconductor Process Development
机译:
拉曼光谱法在半导体工艺发育中局部应力方法论及无定形碳和SiGe膜的表征
作者:
Jae Hyun Kim
;
Chang Hwan Lee
;
Koon Ho Bae
;
Seung Min Han
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Raman Shift;
amorphous silicon;
SiGe;
amorphous carbon;
local stress;
semiconductor process;
55.
Recent Progress in Advanced In-line Metrology For High-Mobility Semiconductors
机译:
高迁移型半导体高级型号计量的最新进展
作者:
Andreas Schulze
;
Wilfried Vandervorst
;
Matty Caymax
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Heterostructures;
Metrology;
Defectivity;
Strain;
Composition;
Cathodoluminescence;
XRD;
56.
In-Situ Real-Time Monitoring And Control Of Kinetic Processes In Atomic Layer Depositions By Spectroscopic Ellipsometry With 1.25 Hz Sampling Rate
机译:
用1.25Hz采样率的光谱椭圆形测量法原位实时监测和控制原子层沉积中的动力学过程
作者:
Marcel Junige
;
Varun Sharma
;
Ralf Tanner
;
Daniel Schmidt
;
Greg Pribil
;
Matthias Albert
;
Mathias Schubert
;
Johann W. Bartha
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
in-situ real-time Spectroscopic Ellipsometry (irtSE);
Atomic Layer Deposition (ALD);
Al_2O_3;
Ta_2O_5;
TaN_x;
Ru;
57.
Strain Characterisation at Nanoscale Using Transmission Electron Beam Based Techniques
机译:
基于透射电子束技术的纳米尺度应变表征
作者:
J.L. Rouviere
;
N. Bernier
;
M. Vigouroux
;
D. Cooper
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Strain;
precession;
nanobeam;
electron diffraction;
microscopy;
transmission;
58.
Real-Time Monitoring of Thin-Films Using Temperature-Controlled Ellipsometry for Nanotechnology Applications
机译:
利用温度控制型纳米技术应用实时监测薄膜
作者:
C. Licitra
;
F. Piegas Luce
;
F. Mazen
;
P. Noe
;
J. El-Sabahy
;
V. Jousseaume
;
E. Beche
;
L. Vignoud
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Ellipsometry;
in-situ;
real-time;
temperature;
59.
XRD/TEM/EELS Studies on Memory Device Structures
机译:
XRD / TEM / EELS关于内存设备结构的研究
作者:
Santosh K Kurinec
;
Sankha Mukherjee
;
Archana Devasia
;
Surendra Gupta
;
Simone Raoux
;
Jean Jordan-Sweet
;
David MacMahon
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Time Resolved X-Ray Diffraction;
Electron Energy Loss Spectroscopy;
Magnetic Tunnel Junction;
Phase Change Memory;
60.
Reference-free, Depth-dependent Characterization Of Nanoscaled Materials Using A Combined Grazing Incidence X-ray Fluorescence And X-ray Reflectometry Approach
机译:
使用组合的放牧入射X射线荧光和X射线反射测量方法的基准,无参考,深度依赖表征纳米级材料
作者:
Philipp Honicke
;
Blanka Detlefs
;
Claudia Fleischmann
;
Matthias Muller
;
Emmanuel Nolot
;
Helen Grampeix
;
Burkhard Beckhoff
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
GIXRF;
XRR;
depth profiling;
ultra-shallow implants;
nanolaminates;
61.
Characterization of Cross-Sectional Profile of Resist Pattern Using Grazing-Incidence Small Angle X-Ray Scattering
机译:
使用放射性发生小角度X射线散射抗蚀剂图案横截面轮廓的表征
作者:
Yoshiyasu Ito
;
Akifusa Higuchi
;
Kazuhiko Omote
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
X-ray metrology;
CD-SAXS;
GI-SAXS;
Resist;
Cross-sectional profile;
62.
2D and 3D Nanoscale Measurements of Electric and Magnetic Fields in Functional Materials with Electron Holography
机译:
2D和3D纳米级测量电子和磁场的功能材料,电子全息术
作者:
Daniel Wolf
;
Felix Borrnert
;
Jonas Krehl
;
Andreas Lenk
;
Hannes Lichte
;
Axel Lubk
;
Falk Roder
;
Jan Sickmann
;
Sebastian Sturm
;
Karin Vogel
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
holography;
tomography;
electric;
magnetic;
potential;
field;
semiconductor;
doping;
nanoscale;
domain;
63.
Probing Optical and Electronic Properties of Individual Defects Through Scanning Transmission Electron Microscopy and First-Principles Theory
机译:
通过扫描透射电子显微镜和第一原理理论探测各个缺陷的光学和电子性质
作者:
S. J. Pennycook
;
W. Zhou
;
M. P. Oxley
;
J. Lee
;
J. Lin
;
J. C. Idrobo
;
M. Kapetanakis
;
M. P. Prange
;
S. T. Pantelides
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Scanning transmission electron microscopy;
electron energy loss spectroscopy;
plasmonics;
optical properties;
64.
Electron Tomography of Advanced Transistor Architectures
机译:
高级晶体管架构的电子层析术
作者:
Andrew A. Herzing
;
Jiong Zhang
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Electron tomography;
STEM;
microscopy;
65.
Non-Destructive Compositional Metrology of NAND Memory and Emerging Non-Volatile Memories
机译:
NAND记忆的非破坏性组成计量和新兴的非易失性记忆
作者:
Olivier Dulac
;
Anna Meura
;
Anne-Sophie Robbes
;
Mona Moret
;
David J. Larson
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Compositional Metrology;
Non-destructive;
LEXES;
STT-RAM;
thin films;
non-volatile memory;
66.
Correlative atom probe and STEM-HAADF tomography of nanodevices
机译:
NANOPENTICE的相关原子探测和茎HAADF层析成像
作者:
A. Grenier
;
S. Duguay
;
R. Serra
;
J.P. Barnes
;
G Audoit
;
D Cooper
;
D. Blavette
;
N. Rolland
;
F. Vurpillot
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Electron tomography;
atom probe tomography;
CMOS devices;
67.
Advances in Atom Probe Metrology
机译:
原子探测计量的进展
作者:
Thomas F. Kelly
;
Karen T. Henry
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
atom probe tomography;
semiconductor metrology;
nanostructure analysis;
atomic-scale tomography;
68.
Liquid-metal-jet X-ray tube technology for nanoelectronics characterization and metrology
机译:
用于纳米电子表征和计量的液态金属射流X射线管技术
作者:
E. Espes
;
B. A. M. Hansson
;
O. Hemberg
;
G. Johansson
;
M. Otendal
;
T. Tuohimaa
;
P. Takman
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
x-ray;
tube;
source;
microfocus;
metaljet;
liquid-metal-jet;
gallium;
indium;
TXRF;
microscopy;
imaging;
69.
Measurement Range Induced Electron Density Perturbations in X-Ray Reflectometry
机译:
测量范围诱导X射线反射测量中的电子密度扰动
作者:
Donald Windover
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
X-Ray Reflectometry;
Metrology;
Density;
Thin Films;
Platinum;
Reference Materials;
70.
Silicidation and Strain Analysis of Silicon Nanowires
机译:
硅纳米线的硅化和应变分析
作者:
M. Loffler
;
W. M. Weber
;
S. Banerjee
;
A. Heinzig
;
M. Grube
;
D. Deb
;
T. Baldauf
;
U. Muhle
;
A. Erbe
;
T. Mikolajick
;
E. Zschech
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Silicon nanowire;
transistor;
reconfigurable transistor;
HRTEM;
strain engineering;
silicidation;
71.
Nanostructure Imaging on Plasmonic Gratings by Epifluorescence Microscopy
机译:
偏荧光显微镜纳米结构上的纳米结构成像
作者:
B. Chen
;
S. Bok
;
S. Pathan
;
D. Suresh
;
A. Upendran
;
R. Kannan
;
C. Mathai
;
K. Gangopadhyay
;
S. Gangopadhyay
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Nanostructures;
plasmonic gratings;
epi-fluorescence microscopy;
nanoscale imaging;
72.
Characterization of Magnetic Nanostructures for ST-RAM Applications By Use Of Macro- and Micro-Scale Ferromagnetic Resonance
机译:
通过使用宏观和微级铁磁共振的ST-RAM应用磁纳米结构的表征
作者:
T. J. Silva
;
H. T. Nembach
;
J. M. Shaw
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Spin torque;
memory;
switching;
ferromagnetic resonance;
damping;
vector network analyzer;
magneto-optics;
microscope;
73.
Sub-10 nm-thick-carbon nanotube tip for AFM
机译:
用于AFM的10 nm厚碳纳米管尖端
作者:
J. Choi
;
K. Y. Jung
;
S. K. Kanth
;
B. C. Park
;
H. S. Kim
;
L. Joon
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Critical dimensional metrology;
critical dimensional atomic force microscope;
carbon nanotube tip;
sidewall chatter;
74.
Advances in Multi-Beam SEM Technology for High Throughput Defect Inspection
机译:
多光束SEM技术对高吞吐量缺陷检查的研究进展
作者:
Gregor Dellemann
;
Thomas Kemen
;
Anna Lena Eberle
;
Tomasz Garbowski
;
Matt Malloy
;
Stefan Wurm
;
Benjamin D. Bunday
;
Brad Thiel
;
Dirk Zeidler
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Multi-beam;
SEM;
high speed imaging;
beam splitter;
75.
Robust Optical Modeling of SiGe Layers
机译:
SiGe层的鲁棒光学建模
作者:
Martin Weisheit
;
Robert Melzer
;
Henry Bernhardt
;
Adam Urbanowicz
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
SiGe;
spectroscopic ellipsometry;
dielectric function;
metrology;
76.
Characterization Of Plasma Process Induced Damage Near SiN/SiO_2/Si Interface By Room Temperature Photoluminescence
机译:
通过室温光致发光,血浆工艺诱导血浆工艺诱导损伤的表征
作者:
Jung Geun Kim
;
Ho Jin Cho
;
Sung Ki Park
;
Seok-Hee Lee
;
Byoung Gon Choi
;
Jea Young An
;
Young Il Cheon
;
Young Ho Jeon
;
Toshikazu Ishigaki
;
Kitaek Kang
;
Woo Sik Yoo
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
77.
High Resolution X-ray Diffraction For In-line Monitoring Of Ge MOSFET Devices
机译:
高分辨率X射线衍射GE MOSFET器件的在线监测
作者:
Paul Ryan
;
Matthew Wormington
;
Jianwu Sun
;
Andriy Hikavyy
;
Yosuke Shimura
;
Liesbeth Witters
;
Hilde Tielens
;
Roger Loo
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
X-ray;
metrology;
SiGe;
Ge channel;
diffraction;
strain;
relaxation;
78.
Development and Characterisation of Scatterometry Reference Standards
机译:
散射仪参考标准的开发与表征
作者:
Bernd Bodermann
;
Bernd Loechel
;
Frank Scholze
;
Johannes Endres
;
Juergen Probst
;
Matthias Wurm
;
Max Schoengen
;
Michael Krumrey
;
Sven Burger
;
Victor Soltwisch
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Scatterometry;
OCD;
reference standard;
CD metrology;
GISAXS;
tool matching;
rigorous modelling;
79.
Thermal Wave Analysis of Implanted Layers in Semiconductors: Measurement Performance vs. Process Requirements
机译:
半导体中植入层的热波分析:测量性能与工艺要求
作者:
Nicolas Siedl
;
Moriz Jelinek
;
Mario Lugger
;
Gerrit Schutte
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Thermal Wave Analysis;
Implantation Dose;
Process Monitoring;
Measurement System Analysis;
80.
Metamorphic Growth-Related Defects and Electrical Properties in III-Sb Materials for High-Mobility p- MOSFETs
机译:
具有III-SB材料的变质生长相关的缺陷和电性能,用于高迁移性P-MOSFET
作者:
A. P. Jacob
;
S. Madisetti
;
S. Sasaki
;
V. Tokranov
;
M. Yakimov
;
M. Hirayama
;
S. Bentley
;
S. Oktyabrsky
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Group III-Antimonide semiconductors;
Metamorphic growth;
Defects;
Mobility;
p-type defect levels;
III-V p-MOSFET;
81.
Scatterfield Microscopy and the Fundamental Limits of Optical Defect Metrology
机译:
散域显微镜和光学缺陷计量的基本限制
作者:
Richard M. Silver
;
Bryan M. Barnes
;
Martin Y. Sohn
;
Hui Zhou
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Defect metrology;
defect sensitivity;
defect detection;
scatterfield microscopy;
scatterfield optical microscopy;
volumetric imaging;
82.
2D Materials Beyond Graphene for Future Electronics
机译:
超越石墨烯的2D材料用于未来电子产品
作者:
Frank Schwierz
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Two-dimensional material;
MOSFET;
graphene;
phosphorene;
nanoribbon;
transition metal dichalcogenide;
MoS2;
flexible electronics;
83.
Advanced Metrology For Beyond Silicon Semiconductor Device Structures
机译:
超出硅半导体器件结构的高级计量
作者:
Andreas Schulze
;
Roger Loo
;
Johan Meersschaut
;
Dennis van Dorp
;
David Gachet
;
Jean Berney
;
Wilfried Vandervorst
;
Matty Caymax
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
Heteroepitaxy;
Metrology;
Defectivity;
Strain;
Composition;
RBS;
CL;
XRD;
84.
Positon Annihilation Spectroscopy: an Emerging Technique For Characterization of Oxygen Vacancies in Hf-basedhigh-k Materials?
机译:
皮肤湮没光谱:一种新兴技术,用于表征HF的HF型高k材料中的氧气障碍?
作者:
M. Alemany
;
P. Desgardin
;
A. Chabli
;
F. Bertin
;
M. Gros-Jean
;
M.-F. Barthe
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2015年
关键词:
High-k;
HfO_2;
Oxygen vacancy;
Positron annihilation;
Doppler broadening spectroscopy...;
85.
Helium Ion Microscopy: a New Technique for Semiconductor Metrology and Nanotechnology
机译:
氦离子显微镜:半导体计量和纳米技术的新技术
作者:
Michael T. Postek
;
Andras E. Vladar
;
John Kramar
;
Lewis A. Stern
;
John Notte
;
Sean McVey
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
|
2007年
关键词:
Electron microscope;
Focused ion beam;
Scanning helium ion microscope;
Ion imaging;
86.
Internal Photoemission Spectroscopy of Metal Gate/High-k/Semiconductor Interfaces
机译:
金属栅极/高k /半导体接口的内部光电激素光谱
作者:
N. V. Nguyen
;
O. Kirillov
;
H. D. Xiong
;
J. S. Suehle
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2007年
关键词:
Internal photoemission;
High-k dielectric;
Metal oxide semiconductor;
87.
X-ray Reflectivity Measurements of Nanoscale Structures: Limits of the Effective Medium Approximation
机译:
纳米级结构的X射线反射率测量:有效介质近似的限制
作者:
Hae-Jeong Lee
;
Christopher L. Soles
;
Shuhui Kang
;
Hyun Wook Ro
;
Eric K. Lin
;
Wen-li Wu
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2007年
关键词:
X-ray reflectivity;
Effective medium approximation;
Pattern structure;
Line gratings;
Nanoimprint lithography;
Optical contact lithography;
88.
EUV Lithography: New Metrology Challenges
机译:
EUV光刻:新的计量挑战
作者:
Obert Wood
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2007年
关键词:
EUV lithography;
Multilayer coatings;
Surface figure errors;
Mask blank defects;
89.
Metrology and Characterization for Extending Silicon CMOS
机译:
延伸硅CMOS的计量和表征
作者:
Toshihiko Kanayama
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2007年
关键词:
CD-AFM;
UV Raman spectroscopy;
Scanning near-field optical microscopy;
Stress distribution measurement;
Scanning tunneling microscopy;
Dopant profiling;
Performance variability;
Technology booster;
90.
Distribution Correction for Rapid, High Precision XPS Measurements of Thickness and Dose
机译:
用于快速,高精度XPS测量的分布校正厚度和剂量
作者:
Wesley Nieveen
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2007年
关键词:
X-ray Photoelectron Spectroscopy;
Thickness;
Dose;
Thin Films;
91.
An Introduction to the Helium Ion Microscope
机译:
氦离子显微镜介绍
作者:
John Notte
;
Bill Ward
;
Nick Economou
;
Ray Hill
;
Randy Percival
;
Lou Farkas
;
Shawn McVey
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2007年
关键词:
Scanning electron microscope;
Focused ion beam;
Scanning helium ion microscope;
Ion imaging;
92.
There's Plenty Of Difficulty Near The Bottom
机译:
底部有很多难度
作者:
Mark Durcan
;
Shifeng Lu
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2007年
关键词:
Atomic layer deposition;
Self assembly;
Metrology;
Flash memory;
Patterning;
93.
Metrology Of Silicide Contacts For Future CMOS
机译:
未来CMOS的硅化物接触的计量
作者:
Stefan Zollner
;
Richard B. Gregory
;
M. L. Kottke
;
Victor Vartanian
;
Xiang-Dong Wang
;
David Theodore
;
P. L. Fejes
;
J. R. Conner
;
Mark Raymond
;
Xiaoyan Zhu
;
Dean Denning
;
Scott Bolton
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2007年
关键词:
Silicide;
Thin-film metrology;
XRF;
XRR;
Schottky barrier;
94.
Review of NSOM Microscopy for Materials
机译:
回顾NSOM显微镜材料
作者:
Y. De Wilde
;
P.-A. Lemoine
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2007年
关键词:
NSOM;
Near-field optics;
Scanning probe microscopy;
Nano-optics;
Optical imaging;
Optical characterization;
Apertureless NSOM;
Scattering type NSOM;
95.
Analytics and Metrology of Strained Silicon Structures by Raman and Nano-Raman Spectroscopy
机译:
拉曼和纳米拉曼光谱法的分析和计量硅结构
作者:
Michael Hecker
;
Liang Zhu
;
Carsten Georgi
;
Inka Zienert
;
Jochen Rinderknecht
;
Holm Geisler
;
Ehrenfried Zschech
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2007年
关键词:
Strained silicon;
Silicon-germanium;
Raman spectroscopy;
TERS;
Nano-Raman;
96.
Application of Micro-thermal Analysis for Metal, Oxide, and Non-oxide Thin Film Materials
机译:
金属,氧化物和非氧化物薄膜材料微热分析的应用
作者:
Nathan Carlie
;
Jonathan Massera
;
Laeticia Petit
;
Kathleen Richardson
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2009年
关键词:
Atomic force microscopes;
glasses;
thin films;
thermal conductivity nanoparticle synthesis;
97.
Boron Nanowires for Flexible Electronics and Field Emission
机译:
硼纳米线,用于柔性电子和场发射
作者:
Jifa Tian
;
Jinming Cai
;
Chao Hui
;
Chen Li
;
Yuan Tian
;
Chengmin Shen
;
Hongjun Gao
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2009年
关键词:
Boron;
Nanowires;
Single crystalline;
Electronics;
Flexibility;
Field emission;
98.
Characterization of HfO_(2) and Hafnium Silicate Films on SiO_(2)/Si
机译:
SiO_(2)/ si上HFO_(2)和铪硅酸盐薄膜的表征
作者:
E. Bersch
;
M. Di
;
S. Consiglio
;
R.D. Clark
;
G.J. Leusink
;
A.C. Diebold
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2009年
关键词:
HfO_(2);
hafnium silicate;
XPS;
band offsets;
band gap;
spectroscopic ellipsometry;
ARXPS;
depth profile;
99.
Towards synchrotron-based nanocharacterization
机译:
朝基于同步的纳米特征
作者:
Pierre Bleuet
;
Lucile Arnaud
;
Xavier Biquard
;
Peter Cloetens
;
Lise Doyen
;
Patrice Gergaud
;
Patrick Lamontagne
;
Maylis Lavayssiere
;
Jean-Sebastien Micha
;
Olivier Renault
;
Francois Rieutord
;
Jean Susini
;
Olivier Ulrich
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2009年
关键词:
Synchrotron;
Tomography;
Fluorescence;
Diffraction;
Strain;
Spectroscopy;
100.
Simulations of Scatterometry Down to 22 nm Structure Sizes and Beyond with Special Emphasis on LER
机译:
模拟散射测量仪下降到22 nm结构尺寸及更高的特殊强调LER
作者:
W. Osten
;
V. Ferreras Paz
;
K. Frenner
;
T. Schuster
;
H. Bloess
会议名称:
《International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics》
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2009年
关键词:
Scatterometry;
RCWA;
line edge roughness;
sensitivity;
22 nm;
metrology;
CD;
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