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Symposium on low-dielectric constant materials
Symposium on low-dielectric constant materials
召开年:
1998
召开地:
San Francisco, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Aluminum wiring reliability of fluorinated amorphous carbon interlayer
机译:
氟化非晶碳中间层的铝布线可靠性
作者:
M.Iguchi
;
Y.Matsubara
;
S.Ito
;
K.Endo
;
K.Koyanagi
;
K.Kishimoto
;
H.Gomi
;
T.Tatsumi
;
T.Horiuchi
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
2.
Dielectric anisotropy of organic interlayer dielectrics confined in submicron
机译:
限制在亚微米范围内的有机层间电介质的介电各向异性
作者:
T.H.Cho
;
E.Todd Ryan
;
Paul S.Ho
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
3.
Dielectric behavior and phonon damping in low-dielectric constant perovskite materials
机译:
低介电常数钙钛矿材料的介电行为和声子阻尼
作者:
Ram S.Katiyar
;
Igor Siny
;
R.Guo
;
A.S.Bhalla
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
4.
Electromigration study of Al/Low-K dielectric line structures
机译:
Al / Low-K介电线结构的电迁移研究
作者:
P.-H.Wang
;
J.G.Pellerin
;
R.J.Fox III
;
P.S.Ho
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
5.
Fabrication and characterization of spin-on silica xerogel films
机译:
旋涂二氧化硅干凝胶膜的制备与表征
作者:
S.Nitta
;
A.Jain
;
V.Pisupatti
;
W.N.Gill
;
P.C.Wayner
;
J.L.Plawsky
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
6.
Influence of moisture-uptake on mechanical properties of polymers used inmicroelectronics
机译:
水分吸收对微电子学中聚合物力学性能的影响
作者:
R.Buchhold
;
A.Nakladal
;
G.Gerlach
;
K.Sahre
;
K.-J.Eichhorn
;
M.Herold
;
G.Gauglitz
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
7.
Liquid-phase deposition of low-k organic silicon-oxide films
机译:
低k有机氧化硅膜的液相沉积
作者:
K.Usami
;
S.Sugahara
;
K.Sumimura
;
M.Matsumura
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
8.
Low-dielectric constant SiO(F.C) films for ULSI interconnections prepared by CF_4 plasma ion implantation
机译:
通过CF_4等离子体离子注入制备的用于ULSI互连的低介电常数SiO(F.C)膜
作者:
Yuanzhong Zhou
;
Shu Qin
;
Chung Chan
;
Paul K.Chu
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
9.
Nanoporous silica for low-k dielectrics
机译:
用于低k电介质的纳米多孔二氧化硅
作者:
T.Ramos
;
K.Rhoderick
;
R.Roth
;
L.Brungardt
;
S.Wallace
;
J.Drage
;
J.Dunne
;
D.Endisch
;
R.Katsanes
;
N.Viernes
;
D.M.Smith
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
10.
Newly devleoped low-k and low-stress fluorinated silicon oxide utilizing temperature-difference liquid-phase deposition technology
机译:
利用温差液相沉积技术新开发的低k低应力氟化硅氧化物
作者:
Ching-Fa Yeh
;
Yueh-Chuan Lee
;
Su-Chen Lee
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
11.
A novel method to determine the mechanical properties of ultra-thin films
机译:
确定超薄膜机械性能的新方法
作者:
C.C.White
;
W.L.Wu
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
12.
Adhesion energy measurements of multilayer low-K dielectric materials for ULSI applications
机译:
用于ULSI应用的多层低K介电材料的粘合能测量
作者:
E.O.Shaffer II
;
M.E.Mills
;
D.Hawn
;
M.Van Gestel
;
A.Knorr
;
H.Gundlach
;
K.Kumar
;
A.E.Kaloyeros
;
R.E.Geer
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
13.
Adhesion study in aluminum/polyimide system
机译:
铝/聚酰亚胺体系中的附着力研究
作者:
S.H.Yoo
;
S.J.Heo
;
Y.-H.Kim
;
B.J.Han
;
J.M.Yoon
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
14.
Optical birefringence to determine morphological changes in low-K thin film CVD polymers
机译:
光学双折射确定低K薄膜CVD聚合物的形态变化
作者:
Jay J.Senkevich
;
Viktor Simkovic
;
Seshu B.Desu
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
15.
Phase separation behaviors of polyimide blends
机译:
聚酰亚胺共混物的相分离行为
作者:
C.H.Ryu
;
Y.C.Bae
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
16.
Porous silica: a potential material for low-dielectric constant applications
机译:
多孔二氧化硅:低介电常数应用的潜在材料
作者:
Edward D.Birdsell
;
Rosario A.Gerhardt
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
17.
Properties development during curing of low dielectric-constant spin-on glasses
机译:
低介电常数旋涂玻璃固化过程中的性能发展
作者:
Robert F.Cook
;
Eric G.Liniger
;
David P.Klaus
;
Eva E.Simonyi
;
Stephan A.Cohen
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
18.
Pulsed plasma synthesis of low-dielectric constant materials
机译:
低介电常数材料的脉冲等离子体合成
作者:
Licheng M.Han
;
Richard B.Timmons
;
Wei W.Lee
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
19.
Reliability of Cu/WN thin films deposited on low-dielectric constant SiOF ILD
机译:
低介电常数SiOF ILD上沉积的Cu / WN薄膜的可靠性
作者:
Seoghyeong Lee
;
Dong Joon Kim
;
Sung-Hoon Yang
;
Jeongwon Park
;
Seil Sohn
;
Kyunghui Oh
;
Yong-Tae Kim
;
Jong-Wan Park
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
20.
Stability of silicon-oxygen-fluorine and carbon-fluorine low-k dielectrics with respect to attack by water
机译:
硅-氧-氟和碳-氟低k电介质对水侵蚀的稳定性
作者:
H.Yang
;
G.Lucovsky
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
21.
Stress-corrosion cracking of spin-on glass thin films
机译:
旋涂玻璃薄膜的应力腐蚀开裂
作者:
Robert F.Cook
;
Eric G.Liniger
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
22.
Study of th thermal properties of polymeric dielectric materials by photothermal technique
机译:
用光热技术研究高分子介电材料的热性能
作者:
Chuan Hu
;
Ennis
;
T.Ogawa
;
Michael F.Hay
;
Paul S.Ho
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
23.
Templating nanopores into poly(methylsilsesquioxane): new low-dielectric coatings suitable for microelectronic applications
机译:
将纳米孔模板化为聚(甲基倍半硅氧烷):适用于微电子应用的新型低介电涂层
作者:
Julius F.Remenar
;
Craig J.Hawker
;
James L.Hedrick
;
Sung Mog Kim
;
Robert D.Miller
;
Cattien Nguyen
;
Mikael Trollsas
;
Do Y.Yoon
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
24.
Time- dependent reliability of the interface between A-C:F and inorganic dielectrics
机译:
A-C:F与无机电介质之间的界面随时间变化的可靠性
作者:
Kazuhiko Endo
;
Keisuke Shinoda
;
Toru Tatsumi
;
Yoshihisa Matsubara
;
Manabu Iguchi
;
Tadahiko Horiuchi
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
25.
Characterization of PECVD fluorinated silicon oxides and stabilization of interactionwith metals
机译:
PECVD氟化硅的表征和与金属相互作用的稳定化
作者:
Sarah E.Kim
;
Christoph Steinbruchel
;
Atul Kumar
;
M.Bakhru
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
26.
Characterization of spin-on glasses by microindentation
机译:
通过微压痕表征旋涂玻璃
作者:
Eva E.Simonyi
;
K.-W.Lee
;
Robert F.Cook
;
Eric G.Liniger
;
James Speidell
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
27.
Dielectric properties of glass capillary arrays
机译:
玻璃毛细管阵列的介电性能
作者:
T.E.Huber
;
Leo Silber
;
Frank Boccuzzi
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
28.
Electron beam processing for spin-on polymers and its applications to back-end-of-line (BEOL) integration
机译:
旋涂聚合物的电子束处理及其在后端(BEOL)集成中的应用
作者:
J.J.Yang
;
J.Gill
;
J.Kennedy
;
S.-Q.WANG
;
L.Forester
;
M.Ross
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
29.
Ion beam techniques for low-k materials characterization
机译:
离子束技术用于低k材料表征
作者:
H.Bakhru
;
A.Kumar
;
T.Kaplan
;
M.Delarosa
;
J.Fortin
;
G.R.Yang
;
T.-M.Lu
;
S.Kim
;
C.Steinbruchel
;
X.Tang
;
J.A.Moore
;
B.Wang
;
J.McDonald
;
S.Nitta
;
V.Pisupatti
;
A.Jain
;
P.Wayner
;
J.Plawsky
;
W.Gill
;
C.Jin
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
30.
Novel technique for measuring through-plane thermo-mechanical properties of thin polymer films
机译:
测量聚合物薄膜通面热机械性能的新技术
作者:
K.S.Patel
;
Sue Ann Bidstrup-Allen
;
P.A.Kohi
;
T.C.Hodge
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
31.
Experimental and theoretical study of structure-dielectric property relationships for polysilsesquioxanes
机译:
倍半硅氧烷结构-介电性能关系的实验和理论研究
作者:
Sung Mog Kim
;
Do Y.Yoon
;
Cattien V.Nguyen
;
Jie Han
;
Richard L.Jaffe
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
32.
Electrical reliability of Cu and low-K dieelctric integration
机译:
铜的电气可靠性和低K介电常数
作者:
S.Simon Wong
;
Alvin L.S.Loke
;
Jeffrey T.Wetzel
;
Paul H.Townsend
;
Raymond N.Vrtis
;
Melvin P.Zussman
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
33.
Fundamental aspects of polymer metallization
机译:
聚合物金属化的基本方面
作者:
F.Faupel
;
T.Strunskus
;
M.Kiene
;
A.Thran
;
C.V.Bechtolsheim
;
V.Zaporojtchenko
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
34.
Overview of process integration issues for low-k dielectrics
机译:
低k电介质的工艺集成问题概述
作者:
R.H.Havemann
;
M.K.Jain
;
R.S.List
;
A.R.Ralston
;
W-Y.Shih
;
C.Jin
;
M.C.Chang
;
E.M.Zielinski
;
G.A.Dixit
;
A.Singh
;
S.W.Russell
;
J.F.Gaynor
;
A.J.McKerrow
;
W.W.Lee
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
35.
Polymer/metal interfaces in interconnect structures: moisture diffusion and stress corrosion effects
机译:
互连结构中的聚合物/金属界面:水分扩散和应力腐蚀效应
作者:
Qing Ma
;
Quan Tran
;
Chuanbin Pan
;
Harry Fujimoto
;
Chien Chiang
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
36.
pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition from CH_2F_2, C_2H_2F_4, and CHCIF_2
机译:
脉冲等离子体增强了CH_2F_2,C_2H_2F_4和CHCIF_2的化学气相沉积
作者:
Catherine B.Labelle Kenneth K.S.Lau
;
Karen K.Gleason
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
37.
Reliability and copper interconnections with low-dielectric constant materials
机译:
低介电常数材料的可靠性和铜互连
作者:
C-K.Hu
会议名称:
《Symposium on low-dielectric constant materials》
|
1998年
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