机译:通过在漂移区引入二氧化硅的新型高击穿电压LDMOS
Damghan Univ, Sch Engn, Damghan, Iran;
Semnan Univ, Dept Elect & Comp Engn, Semnan, Iran;
Damghan Univ, Sch Engn, Damghan, Iran;
Lateral double diffused MOSFET (LDMOS); Breakdown voltage; Specific on-resistance;
机译:上漂移区双步局部SOI LDMOSFET:一种提高击穿电压和输出特性的新型器件
机译:在漂移区域中具有高压和低电阻箱的新型绝缘体中的高击穿电压和高驱动电流
机译:采用有效基板电压法用任意漂移掺杂谱的SOI LDMOS的分析击穿模型
机译:SOI RESURF LDMOS器件中击穿电压对漂移长度和线性掺杂梯度的依赖性
机译:研究氧化镧(III)对锡/二氧化ha /氧化镧/二氧化硅/硅叠层的阈值电压偏移效应。
机译:高压应用超晶格GaN-On-Silicon异质结构的高击穿电压和低缓冲液
机译:采用有效基板电压法用任意漂移掺杂谱的SOI LDMOS的分析击穿模型
机译:恒定隧穿电流应力下二氧化硅的时间相关介电击穿