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The effect of alumina inclusions on the breakdown and emission properties of copper surfaces in vacuum

机译:真空中氧化铝夹杂物对铜表面击穿和发射性能的影响

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摘要

We have studied electrical breakdown in vacuum for copper electrodes which have been intentionally contaminated by adding 1/2% by weight of alumina powder having a size of 500, 50, or 5 μm. Electron emission, pulse breakdown, and scanning electron microscopy have been used to evaluate the dielectric characteristics of the surfaces. Comparison of these results with those obtained using a zone‐refined copper surface indicate an initial degradation of about 30% for the surface containing 50‐μm particles and little effect for the surface containing 500‐μm particles. All surfaces conditioned to about the same voltage. Breakdown to all samples containing particles was clearly associated with metal‐insulator boundaries.
机译:我们已经研究了铜电极在真空中的电击穿,这些铜电极通过添加1/2重量%的尺寸为500、50或5μm的氧化铝粉末而被故意污染。电子发射,脉冲击穿和扫描电子显微镜已用于评估表面的介电特性。将这些结果与使用区域精炼铜表面获得的结果进行比较,结果表明,包含50μm颗粒的表面的初始降解约为30%,而包含500μm颗粒的表面的影响则很小。所有表面都调节到大约相同的电压。所有包含颗粒的样品的分解显然都与金属-绝缘体的边界有关。

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  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |1979年第5期|P.3608-3614|共7页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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